Member:Sumihira
京大推進研
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Toru Sumihira(M2), Masao Noma, Michiru Yamashita, Shigehiko Hasegawa, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: “Characterization of surface sputtering resistance of boron nitride films under plasma exposure”, 41st International Symposium on Dry Process: DPS2019, November 21-22, 2019, JMS Aster plaza, Hiroshima, Japan. | Toru Sumihira(M2), Masao Noma, Michiru Yamashita, Shigehiko Hasegawa, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: “Characterization of surface sputtering resistance of boron nitride films under plasma exposure”, 41st International Symposium on Dry Process: DPS2019, November 21-22, 2019, JMS Aster plaza, Hiroshima, Japan. | ||
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2019年12月18日 (水) 16:38時点における版
住平 透 (Toru Sumihira)
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- 修士2年
- メール：sumihira.toru.27z@st.kyoto-u.ac.jp
研究概要
- 二酸化シリコン絶縁膜のプラズマ腐食に関する研究
学歴
- 2014年3月 東大寺学園高等学校 卒業
- 2014年4月 京都大学 工学部 物理工学科 入学
- 2018年3月 京都大学 工学部 物理工学科 宇宙基礎工学コース 卒業
- 2018年4月 京都大学 工学研究科 航空宇宙工学専攻 入学
国際学会
Toru Sumihira(M2), Masao Noma, Michiru Yamashita, Shigehiko Hasegawa, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: “Characterization of surface sputtering resistance of boron nitride films under plasma exposure”, 41st International Symposium on Dry Process: DPS2019, November 21-22, 2019, JMS Aster plaza, Hiroshima, Japan.
