Member:Matsudat

From 京大推進研

Jump to: navigation, search

Contents

松田 崇行(Takayuki Matsuda)

2017年から2020年まで鳥取大学のマイクロデバイス工学研究室に所属し,高周波MEMSの研究に従事.2017年から現所属との共同研究にて,窒化ホウ素(BN: Boron Nitride)膜形成装置の構築と成膜プロセスの開発に取り組む.現在は所属を移し,BN成膜プロセスの確立を目的とした研究に従事.

経歴

  • 2014年3月 兵庫県立御影高等学校 卒業
  • 2018年3月 鳥取大学 工学部 電気電子工学科 卒業
  • 2020年3月 鳥取大学 大学院 工学研究科 情報エレクトロニクス専攻 修士課程 修了
  • 2020年4月 京都大学 大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻 博士後期課程 進学

研究概要 / Research

  • 反応性プラズマ支援成膜(RePAC)法による機能性窒化ホウ素膜の成膜技術の確立
  • 電気伝導機構解析による窒化ホウ素膜の剥離機構の検討

学術論文 / Journal articles

  1. Takayuki Matsuda (D2), Takashi Hamano, Yuya Asamoto, Masao Noma, Michiru Yamashita, Shigehiko Hasegawa, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: “Ion irradiation-induced sputtering and surface modification of BN films prepared by a reactive plasma-assisted coating technique”, Jpn. J. Appl. Phys. 61, Sl1014 (2022). <doi:10.35848/1347-4065/ac5d16>
  2. Takashi Hamano, Takayuki Matsuda (D2), Yuya Asamoto, Masao Noma, Shigehiko Hasegawa, Michiru Yamashita, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: “Spectroscopic ellipsometry characterization of boron nitride films synthesized by a reactive plasma-assisted coating method”, Appl. Phys. Lett. 120, 031904 (2022). <doi:10.1063/5.0077147>

国内学会 / Domestic conferences

  1. 松田崇行 (D2),濱野誉,朝本雄也,野間正男,山下満,長谷川繁彦,占部継一郎,江利口浩二:「電気伝導機構解析による窒化ホウ素膜/Si構造の剥離機構の検討」,第69回応用物理学会春季学術講演会,2022年3月22日~26日,ハイブリッド開催,25p-E104-10.[Oral]
  2. 松田崇行 (D2),濱野誉,朝本雄也,野間正男,長谷川繁彦,山下満,占部継一郎,江利口浩二:「イオンフラックス制御型反応性プラズマ支援成膜法による窒化ホウ素膜構造制御に関する研究」,第82回応用物理学会秋季学術講演会,2021年9月10日~13日,オンライン開催,12p-N102-8.[Oral]

国際学会 / International conferences

  1. Takayuki Matsuda (D2), Takashi Hamano, Yuya Asamoto, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "Controlling of nano-network structures in BN films by a reactive plasma assisted-coating technique and the sputtering characteristics against plasma exposure", 42nd International Symposium on Dry Process: DPS2021, November 18-19, 2021, ONLINE. Proc. 41st International Symposium on Dry Process (DPS), 159-160 (2021)

その他学会発表 / Other conferences

  1. 濱野誉,松田崇行 (D2),朝本雄也,野間正男,長谷川繁彦,山下満,占部継一郎,江利口浩二:「sp結合ナノネットワーク構造変化に起因する窒化ホウ素膜特性遷移の解析」,第69回応用物理学会春季学術講演会,2022年3月22日~26日,ハイブリッド開催,25p-E104-9.
  2. 朝本雄也,松田崇行 (D2),濱野誉,野間正男,長谷川繁彦,山下満,占部継一郎,江利口浩二:「熱電子供給型真空アーク放電の放電電流決定機構に基づくプロセス制御(II)」,第69回応用物理学会春季学術講演会,2022年3月22日~26日,ハイブリッド開催,22p-E105-16.
  3. Yuya Asamoto, Takayuki Matsuda (D2), Takashi Hamano, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "Characterization of carrier conduction in a magnetically-confined vacuum arc discharge and its application to control of incident-ion flux to a substrate", 42nd International Symposium on Dry Process: DPS2021, November 18-19, 2021, ONLINE. Proc. 41st International Symposium on Dry Process (DPS), 83-84 (2021).
  4. [Invited] K. Urabe, T. Matsuda (D2), T. Hamano, Y. Asamoto, M. Noma, M. Yamashita, S. Hasegawa, and K. Eriguchi: "Characterization and control of boron nitride film deposition by a reactive plasma-assisted coating," 5th Asia-Pacific Conference on Plasma Physics (AAPPS-DPP2021), A-I3 (2021/9/28, On-line).
  5. 朝本雄也,松田崇行 (D2),濱野誉,野間正男,長谷川繁彦,山下満,占部継一郎,江利口浩二:「熱電子供給型真空アーク放電の放電電流決定機構に基づくプロセス制御」,第82回応用物理学会秋季学術講演会,2021年9月10日~13日,オンライン開催,12p-N102-9.
  6. 朝本雄也,松田崇行 (D1),濱野誉,野間正男,長谷川繁彦,山下満,占部継一郎,江利口浩二:「反応性プラズマ支援成膜法に用いる熱電子供給型アーク放電の発光分光法による電離機構解析」,SPP-38/SPSM33,2021年1月27日~29日,オンライン開催.