Publications/Books and Reviews

From 京大推進研

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Book.png解説・著書

Contents

2019

  • 江利口浩二: "最新 実用真空技術総覧", (最新 実用真空技術総覧 編集委員会 編, (株)エヌ・ティー・エス, 2019), 第3編 薄膜, 第7章 ドライエッチング.

2018

  • 江利口浩二,占部継一郎: "先端CMOS/メモリデバイスにおけるプラズマ加工技術の現状と課題", 応用物理 第87巻 第12号 (2018), p. 895.
  • 占部継一郎: "レーザー干渉計を用いたプラズマ電子密度計測の高速・高精度化", Readout(堀場製作所技報) 第51巻 (2018), p. 10.
  • 江利口浩二: "真空科学ハンドブック", (日本真空学会 編, 株式会社コロナ社, 2018), 6.2 プラズマプロセス.

2017

  • 江利口浩二: "プラズマプロセス技術", (森北出版株式会社, 2017), 第4章 4.4, pp. 128-136.

2014

  • 斧 高一, 中崎暢也, 津田博隆, 鷹尾祥典, 江利口浩二:プラズマエッチングにおけるナノスケール表面形状揺らぎ, プラズマ・核融合学会誌, Vol. 90, No. 7 (2014), pp. 398-404.

2013

  • 江利口浩二:"先端プロセスとプラズマ誘起ダメージ"(特集「プラズマプロセスの新しい応用」,化学工業社)ケミカルエンジニヤリング,2013,vol.58,No.12,pp. 54-60.
  • 斧 高一, 津田 博隆, 中崎 暢也, 鷹尾 祥典, 江利口 浩二: プラズマナノ加工における表面ラフネスとリップル形成機構, 表面科学, Vol. 34, No. 10 (2013), pp. 528-534.

2012

  • K. Eriguchi:"Molecular Dynamics – Studies of Synthetic and Biological Macromolecules", pp. 221-224, "Application of Molecular Dynamics Simulations to Plasma Etch Damage in Advanced Metal–Oxide–Semiconductor Field-Effect Transistors" (Lichang Wang (Ed.)), ISBN 978-953-51-0444-5, (InTech, 2012).

2010