Dissertations
京大推進研
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;中崎 暢也 (Nobuya Nakazaki) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/215513}} | ;中崎 暢也 (Nobuya Nakazaki) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/215513}} | ||
: A Study of Plasma-Induced Surface Roughness and Ripple Formation during Silicon Etching in Inductively Coupled Chlorine Plasmas<br>（誘導結合塩素プラズマを用いたシリコンエッチングにおけるプラズマ誘起表面ラフネスとリップル形成に関する研究) | : A Study of Plasma-Induced Surface Roughness and Ripple Formation during Silicon Etching in Inductively Coupled Chlorine Plasmas<br>（誘導結合塩素プラズマを用いたシリコンエッチングにおけるプラズマ誘起表面ラフネスとリップル形成に関する研究) | ||
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| + | ; 中久保 義則 (Yoshinori Nakakubo) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/200448}} | ||
| + | : A study of defect generation phenomena in single crystalline silicon substrate during plasma processing and the characterization techniques<br>（プラズマ暴露によるシリコン単結晶基板中の欠陥生成メカニズム及びその評価技術の研究） | ||
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; 福本 浩志 (Hiroshi Fukumoto) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/158076}} | ; 福本 浩志 (Hiroshi Fukumoto) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/158076}} | ||
: Model Analysis of Plasma-Surface Interactions during Silicon Oxide Etching in Fluorocarbon Plasmas<br>（フルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ－表面相互作用の数値解析） | : Model Analysis of Plasma-Surface Interactions during Silicon Oxide Etching in Fluorocarbon Plasmas<br>（フルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ－表面相互作用の数値解析） | ||
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2018年8月9日 (木) 18:33時点における版
博士論文
目次 |
2016
- 中崎 暢也 (Nobuya Nakazaki)
KURENAI repository
- A Study of Plasma-Induced Surface Roughness and Ripple Formation during Silicon Etching in Inductively Coupled Chlorine Plasmas
（誘導結合塩素プラズマを用いたシリコンエッチングにおけるプラズマ誘起表面ラフネスとリップル形成に関する研究)
2015
- 中久保 義則 (Yoshinori Nakakubo) KURENAI repository
- A study of defect generation phenomena in single crystalline silicon substrate during plasma processing and the characterization techniques
（プラズマ暴露によるシリコン単結晶基板中の欠陥生成メカニズム及びその評価技術の研究）
2013
- 丸本 健二 (Kenji Marumoto) KURENAI repository
- 低応力X線吸収体の成膜とX線マスクのパターン位置精度の向上に関する研究 (論文)
- 津田 博隆 (Hirotaka Tsuda) KURENAI repository
- Atomic-Scale Analysis of Plasma-Surface Interactions and Formation Mechanisms of Profile Anomalies and Surface Roughness during Plasma Etching of Silicon
（シリコンエッチングにおけるプラズマ・表面相互作用と形状異常および表面ラフネス形成機構の原子スケール解析） - 松田 朝彦 (Asahiko Matsuda) KURENAI repository
- A Study on Plasma Process-Induced Damage during Fabrication of Si Devices and Methodology for Optical Measurement
（Siデバイス製造過程におけるプラズマプロセス誘起ダメージとその光学的測定方法論の研究）
2012
- 福本 浩志 (Hiroshi Fukumoto) KURENAI repository
- Model Analysis of Plasma-Surface Interactions during Silicon Oxide Etching in Fluorocarbon Plasmas
（フルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ－表面相互作用の数値解析）
2011
- 高橋 岳志 (Takeshi Takahashi) KURENAI repository
- Numerical and Experimental Study of Performance Improvement of a Microwave-Excited Microplasma Thruster Designed for Small Spacecraft
（小型宇宙機用マイクロ波励起マイクロプラズマスラスタの性能向上に関する数値的・実験的研究）
2008
- 杉原 浩平 (Kohei Sugihara) KURENAI repository
- エレベイテッドソース・ドレイン技術による微細MOSFETの高性能化に関する研究 (論文)
- 枝村 学 (Manabu Edamura) KURENAI repository
- 誘導結合型プラズマエッチング装置におけるプラズマ制御の高度化に関する研究 (論文)
2007
- 鷹尾 祥典 (Yoshinori Takao) KURENAI repository
- Development of a Miniature Electrothermal Thruster Using Microwave-Excited Microplasmas for Ultra Small Satellites
(マイクロ波励起マイクロプラズマを用いた超小型人工衛星のための電熱加速型推進機の研究開発）
2006
- 小佐野 祐吾 (Yugo Osano) KURENAI repository
- An Atomic Scale Model of Plasma-Surface Interactions and Numerical Analysis of the Feature Profile Evolution during Silicon Etching in Chlorine-Containing Plasmas
(塩素系プラズマによるシリコンエッチングにおけるプラズマ・表面相互作用の原子スケールモデルと形状進展の数値解析）
2004
- 津田 睦 (Mutsumi Tsuda) KURENAI repository
- A Study of Plasma-Surface Interactions in Plasma Etching with Chlorine- and Bromine-based Chemistries
（塩素および臭素系プラズマエッチングにおけるプラズマと表面との相互作用に関する研究）(論文)
2003
- 上坂 裕之 (Hiroyuki Kosaka) KURENAI repository
- Numerical Studies of the Electromagnetic Fields and Plasma Properties in a Microwave Plasma Source Excited by Azimuthally Symmetric Surface Waves
(軸対称表面波励起マイクロ波プラズマ源における電磁界とプラズマ特性に関する数値的研究)