Member:Morozumi
京大推進研
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2023年5月31日 (水) 16:21時点における版
両角 潤樹 (Junki Morozumi)
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- 博士1年
研究内容 / Study
- プラズマ曝露環境下のプローブ表面状態のモニタリング
経歴 / Education
- 2017年4月 京都大学 工学部 物理工学科 入学
- 2021年3月 京都大学 工学部 物理工学科 宇宙基礎工学コース 卒業
- 2021年4月 京都大学 工学研究科 航空宇宙工学専攻 修士課程 入学
- 2023年3月 京都大学 工学研究科 航空宇宙工学専攻 修士課程 修了
- 2023年4月 京都大学 工学研究科 航空宇宙工学専攻 博士課程 入学
国内学会 / Domestic conference
- 両角潤樹(M1),久山智弘,鬼頭聖弥,占部継一郎,江利口浩二「インピーダンス分光法を用いたプラズマ曝露環境下のプローブ表面状態モニタリング」,第82回 応用物理学会 秋季学術講演会,2021年9月10日~23日,オンライン開催,10a-S301-5a.
- 両角潤樹(M2),江利口浩二,占部継一郎「高調波プローブ法を用いたプラズマ曝露環境下の材料表面状態モニタリング」,第83回 応用物理学会 秋季学術講演会,2022年9月20日~23日,東北大学川内北キャンパス + オンライン開催,20p-A105-4.
国際学会 / International conference
- Junki Morozumi(M2), Takahiro Goya, Koji Eriguchi, and Keiichiro Urabe: "In-situ electrical monitoring of SiO2/Si structures in low-temperature plasma using impedance spectroscopy" 43rd International Symposium on Dry Process: DPS2022, November 24-25, 2022, Osaka International Convention Center & Online, E-2.
学術論文 / Journal articles
- Junki Morozumi (D1), Takahiro Goya, Tomohiro Kuyama, Koji Eriguchi, and Keiichiro Urabe: “In situ electrical monitoring of SiO2/Si structures in low-temperature plasma using impedance spectroscopy”, Jpn. J. Appl. Phys. 62, SI1010 (2023). <doi:10.35848/1347-4065/acc7ae>