Member:Nishida
京大推進研
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*メール：nishida.kentaro.52w(at)st.kyoto-u.ac.jp | *メール：nishida.kentaro.52w(at)st.kyoto-u.ac.jp | ||
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*プラズマ暴露による有機系薄膜の粘弾性特性および誘電率変化の研究 | *プラズマ暴露による有機系薄膜の粘弾性特性および誘電率変化の研究 | ||
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*2015年4月 京都大学 工学研究科 航空宇宙工学専攻 入学 | *2015年4月 京都大学 工学研究科 航空宇宙工学専攻 入学 | ||
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* Kentaro Nishida, Yukimasa Okada, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi and Kouichi Ono,"Evaluation technique for plasma-induced SiOC dielectric damage by capacitance–voltage hysteresis monitoring",Japanese Journal of Applied Physics, Volume 55, Number 6S2,06HB04,May 2016,<[[doi:10.7567/JJAP.55.06HB04]]> | * Kentaro Nishida, Yukimasa Okada, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi and Kouichi Ono,"Evaluation technique for plasma-induced SiOC dielectric damage by capacitance–voltage hysteresis monitoring",Japanese Journal of Applied Physics, Volume 55, Number 6S2,06HB04,May 2016,<[[doi:10.7567/JJAP.55.06HB04]]> | ||
| − | == 国際学会 / International conference == | + | === 国際学会 / International conference === |
* Kentaro Nishida, Yukimasa Okada, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi and Kouichi Ono: "A new evaluation method to characterize low-k dielectric damage during plasma processing", [http://www.dry-process.org/2015/index.html 37th International Symposium on Dry Process: DPS2015], November 5-6, 2015, Awaji Yumebutai International Conference Center, Awaji Island, Japan. Proc. 36th International Symposium on Dry Process (DPS), 213-214 (2015). | * Kentaro Nishida, Yukimasa Okada, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi and Kouichi Ono: "A new evaluation method to characterize low-k dielectric damage during plasma processing", [http://www.dry-process.org/2015/index.html 37th International Symposium on Dry Process: DPS2015], November 5-6, 2015, Awaji Yumebutai International Conference Center, Awaji Island, Japan. Proc. 36th International Symposium on Dry Process (DPS), 213-214 (2015). | ||
| − | == 国内学会 / Domestic conference == | + | === 国内学会 / Domestic conference === |
* 西田健太郎(M1),岡田行正,鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一:「層間絶縁膜へのプラズマダメージの電気的解析手法」, [https://confit.atlas.jp/guide/event/jsap2016s/top 第63回応用物理学会春季学術講演会], 2016年3月19日～22日, 東京工業大学大岡山キャンパス, 19p-W621-4. | * 西田健太郎(M1),岡田行正,鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一:「層間絶縁膜へのプラズマダメージの電気的解析手法」, [https://confit.atlas.jp/guide/event/jsap2016s/top 第63回応用物理学会春季学術講演会], 2016年3月19日～22日, 東京工業大学大岡山キャンパス, 19p-W621-4. | ||
2016年6月2日 (木) 13:03時点における最新版
西田 健太郎 (Kentaro Nishida)
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- 修士課程2年
- メール：nishida.kentaro.52w(at)st.kyoto-u.ac.jp
研究概要
- プラズマ暴露による有機系薄膜の粘弾性特性および誘電率変化の研究
学歴
- 2011年4月 京都大学 工学部 物理工学科 入学
- 2015年3月 京都大学 工学部 物理工学科 卒業
- 2015年4月 京都大学 工学研究科 航空宇宙工学専攻 入学
投稿論文 / Journal article
- Kentaro Nishida, Yukimasa Okada, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi and Kouichi Ono,"Evaluation technique for plasma-induced SiOC dielectric damage by capacitance–voltage hysteresis monitoring",Japanese Journal of Applied Physics, Volume 55, Number 6S2,06HB04,May 2016,<doi:10.7567/JJAP.55.06HB04>
国際学会 / International conference
- Kentaro Nishida, Yukimasa Okada, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi and Kouichi Ono: "A new evaluation method to characterize low-k dielectric damage during plasma processing", 37th International Symposium on Dry Process: DPS2015, November 5-6, 2015, Awaji Yumebutai International Conference Center, Awaji Island, Japan. Proc. 36th International Symposium on Dry Process (DPS), 213-214 (2015).
国内学会 / Domestic conference
- 西田健太郎(M1),岡田行正,鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一:「層間絶縁膜へのプラズマダメージの電気的解析手法」, 第63回応用物理学会春季学術講演会, 2016年3月19日～22日, 東京工業大学大岡山キャンパス, 19p-W621-4.
趣味
- 軽音
- ロードバイク
