Publications/Patents
京大推進研
(版間での差分)
(ページの作成: 公開済み特許一覧 ==国際公開== ===プラズマ処理装置=== ; 発明者 : 斧高一、上坂裕之、石橋清隆、沢田郁夫 ; 出願日 : 2005-06-20 ; 公開…) |
|||
1行: | 1行: | ||
− | 公開済み特許一覧 | + | '''公開済み特許一覧''' |
==国際公開== | ==国際公開== |
2010年6月22日 (火) 11:29時点における版
公開済み特許一覧
目次[非表示] |
国際公開
プラズマ処理装置
- 発明者
- 斧高一、上坂裕之、石橋清隆、沢田郁夫
- 出願日
- 2005-06-20
- 公開日
- 2006-07-06
- 国際出願番号
- PCT/JP2005/011273
- 国際公開番号
- WO 2006/001253 A1
公開
半導体処理装置のクリーニング方法
- 発明者
- 井上實、羽坂智、大沢正典、斧高一、長利一心
- 出願日
- 2006-08-29
- 公開日
- 2008-03-13
- 出願番号
- 特許出願2006-232743
- 公開番号
- 特許公開2008-060171
半導体処理装置のクリーニング方法およびシリコン基板のエッチング方法
- 発明者
- 斧高一、北川智洋、井上實、大沢正典
- 出願日
- 2004-12-24
- 公開日
- 2006-07-06
- 出願番号
- 特許出願2004-374107
- 公開番号
- 特許公開2006-179834