Member:Asamoto
京大推進研
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#Takashi Hamano, Takayuki Matsuda, '''Yuya Asamoto'''(M2), Masao Noma, Shigehiko Hasegawa, Michiru Yamashita, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: “Spectroscopic ellipsometry characterization of boron nitride films synthesized by a reactive plasma-assisted coating method”, Appl. Phys. Lett. '''120''', 031904 (2022). <[[doi:10.1063/5.0077147]]> | #Takashi Hamano, Takayuki Matsuda, '''Yuya Asamoto'''(M2), Masao Noma, Shigehiko Hasegawa, Michiru Yamashita, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: “Spectroscopic ellipsometry characterization of boron nitride films synthesized by a reactive plasma-assisted coating method”, Appl. Phys. Lett. '''120''', 031904 (2022). <[[doi:10.1063/5.0077147]]> | ||
2023年1月31日 (火) 09:47時点における版
目次 |
朝本 雄也/Yuya Asamoto
自己紹介
- 博士1回
- 日本学術振興会特別研究員DC1
- 所属学会:応用物理学会
学歴
- 2016年3月 大阪星光学院高等学校 卒業
- 2020年3月 京都大学 工学部 物理工学科 宇宙基礎工学コース 卒業
- 2022年3月 京都大学大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻 修士課程 修了
- 2022年4月 京都大学大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻 博士課程 進学
研究概要/Research
- 反応性プラズマ支援成膜法により作製した窒化ホウ素膜の構造評価(学部卒業研究)
反応性プラズマ支援成膜(RePAC)法により作製した窒化ホウ素(BN)膜を主に機械特性の観点から評価しました.
- 真空アーク放電の荷電粒子輸送機構に基づく被プロセス基板へのイオンフラックス制御(修士論文)
真空アーク放電の電極間の荷電粒子輸送機構を解析し,その機構が被プロセス基板へのイオンフラックスに与える影響を調べました.
- RePACシステムにおけるプラズマ計測による反応場の描像解明とプロセス最適化への展開
学術論文 / Journal articles
- Takayuki Matsuda, Takashi Hamano, Yuya Asamoto(D1), Masao Noma, Michiru Yamashita, Shigehiko Hasegawa, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: “Ion irradiation-induced sputtering and surface modification of BN films prepared by a reactive plasma-assisted coating technique”, Jpn. J. Appl. Phys. 61, SI1014 (2022). <doi:10.35848/1347-4065/ac5d16>
- Takashi Hamano, Takayuki Matsuda, Yuya Asamoto(M2), Masao Noma, Shigehiko Hasegawa, Michiru Yamashita, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: “Spectroscopic ellipsometry characterization of boron nitride films synthesized by a reactive plasma-assisted coating method”, Appl. Phys. Lett. 120, 031904 (2022). <doi:10.1063/5.0077147>
受賞/Award
- 令和2年度吉田卒業研究・論文賞,2020年10月16日.
国際学会/International conferences
- Yuya Asamoto(M2), Takayuki Matsuda, Takashi Hamano, Masao Noma, Shigehiko Hasegawa, Michiru Yamashita, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "Characterization of carrier conduction in a magnetically- confined vacuum arc discharge and its application to control of incident-ion flux to a substrate." November 18-19, 2021, ONLINE. Proc. 42nd International Symposium on Dry Process (DPS2021), 83-84(2021).
国内学会/Domestic conferences
- 朝本雄也(D1),濱野誉,松田崇行,野間正男,長谷川繁彦,山下満,占部継一郎,江利口浩二:「結合状態を制御した窒化ホウ素膜の高速堆積に向けた窒素ラジカルフラックス最大化に関する研究」,第83回応用物理学会秋季学術講演会,2022年9月20日~23日,ハイブリッド開催,23a-B101-4.
- 朝本雄也(M2),松田崇行,濱野誉,野間正男,長谷川繁彦,山下満,占部継一郎,江利口浩二:「熱電子供給型真空アーク放電の放電電流決定機構に基づくプロセス制御(II)」,第69回応用物理学会春季学術講演会,2022年3月22日~26日,ハイブリッド開催,22p-E105-16.
- 朝本雄也(M2),松田崇行,濱野誉,野間正男,長谷川繁彦,山下満,占部継一郎,江利口浩二「熱電子供給型真空アーク放電の放電電流決定機構に基づくプロセス制御」,第82回応用物理学会秋季学術講演会,2021年9月10日~13日,オンライン開催,12p-N102-9.
- 朝本雄也(M1),松田崇行,濱野誉,野間正男,長谷川繁彦,山下満,占部継一郎,江利口浩二「反応性プラズマ支援成膜法に用いる熱電子供給型アーク放電の発光分光法を用いた電離機構解析」,SPP-38/SPSM33,2021年1月27日~29日,オンライン開催,LO29-PM-A-03.
セミナー,研究会 / Seminars, Workshops
- 朝本雄也 (M2),占部継一郎,松田崇行,濱野誉,野間正男,山下満,長谷川繁彦,江利口浩二「真空アーク放電の荷電粒子輸送機構に基づくイオン流れ制御とその応用」,第 4 回先端流体理工学研究部門公開セミナー,2022年3月7日,オンライン開催.
その他学会発表 / Other conferences
- Takashi Hamano, Takayuki Matsuda, Yuya Asamoto(D1), Masao Noma, Shigehiko Hasegawa, Michiru Yamashita, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "Characterization of nano-network structure transition of boron nitride films by ion irradiation during the film growth", 43rd International Symposium on Dry Process: DPS2022, November 24-25, 2022, Osaka International Convention Center & Online.
- 濱野誉,松田崇行,朝本雄也(M2),野間正男,長谷川繁彦,山下満,占部継一郎,江利口浩二:「sp結合ナノネットワーク構造変化に起因する窒化ホウ素膜特性遷移の解析」,第69回応用物理学会春季学術講演会,2022年3月22日~26日,ハイブリッド開催,25p-E104-9.
- 松田崇行,濱野誉,朝本雄也(M2),野間正男,山下満,長谷川繁彦,占部継一郎,江利口浩二:「電気伝導機構解析による窒化ホウ素膜/Si構造の剥離機構の検討」,第69回応用物理学会春季学術講演会,2022年3月22日~26日,ハイブリッド開催,25p-E104-10.
- T. Matsuda, T. Hamano, Y. Asamoto(M2), M. Noma, M. Yamashita, S. Hasegawa, K. Urabe, and K. Eriguchi: "Controlling of nano-network structures in BN films by a reactive plasma assisted-coating technique and the sputtering characteristics against plasma exposure", 42nd International Symposium on Dry Process: DPS2021, November 18-19, 2021, ONLINE. Proc. 41st International Symposium on Dry Process (DPS), 159-160 (2021).
- [Invited] K. Urabe, T. Matsuda, T. Hamano , Y. Asamoto(M2), M. Noma, M. Yamashita, S. Hasegawa, and K. Eriguchi: "Characterization and control of boron nitride film deposition by a reactive plasma-assisted coating." 5th Asia-Pacific Conference on Plasma Physics (AAPPS-DPP2021), A-I3 (2021/9/28, On-line).
- 松田崇行,濱野誉,朝本雄也(M2),野間正男,長谷川繁彦,山下満,占部継一郎,江利口浩二:「イオンフラックス制御型反応性プラズマ支援成膜法による窒化ホウ素膜構造制御に関する研究」,第82回応用物理学会秋季学術講演会,2021年9月10日~13日,オンライン開催,12p-N102-8.