Member:Shinohara
京大推進研
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Shinohara OA (トーク | 投稿記録) (→投稿論文) |
Shinohara OA (トーク | 投稿記録) (→篠原 健吾(Kengo Shinohara)) |
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*メール：shinohara.kengo.88v(at)st.kyoto-u.ac.jp | *メール：shinohara.kengo.88v(at)st.kyoto-u.ac.jp | ||
| − | + | ==研究概要== | |
* 電気伝導解析による絶縁薄膜のプラズマ誘起欠陥形成過程の研究 | * 電気伝導解析による絶縁薄膜のプラズマ誘起欠陥形成過程の研究 | ||
| − | + | == 学歴 == | |
*2012年4月 京都大学 工学部 物理工学科 入学 | *2012年4月 京都大学 工学部 物理工学科 入学 | ||
*2016年3月 京都大学 工学部 物理工学科 卒業 | *2016年3月 京都大学 工学部 物理工学科 卒業 | ||
*2016年4月 京都大学 大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻 入学 | *2016年4月 京都大学 大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻 入学 | ||
| − | + | == 投稿論文 / Journal article== | |
* Kengo Shinohara, Kentaro Nishida, Kouichi Ono and Koji Eriguchi: "Time-dependent dielectric breakdown characterizations of interlayer dielectric damage induced during plasma processing", Japanese Journal of Applied Physics, Volume 56, Number 6S2, 06HD03, May 2017.<[[doi:10.7567/JJAP.56.06HD03]]> | * Kengo Shinohara, Kentaro Nishida, Kouichi Ono and Koji Eriguchi: "Time-dependent dielectric breakdown characterizations of interlayer dielectric damage induced during plasma processing", Japanese Journal of Applied Physics, Volume 56, Number 6S2, 06HD03, May 2017.<[[doi:10.7567/JJAP.56.06HD03]]> | ||
| − | + | == 国際学会 / International conference == | |
* Kengo Shinohara, Kentaro Nishida, Kouichi Ono, and Koji Eriguchi: "Effects of plasma exposure on leakage and reliability parameters of dielectric film: New measures of damage?", [http://www.dry-process.org/2016/index.html 38th International Symposium on Dry Process: DPS2016], November 21-22, 2016, Conference Hall, Hokkaido University, Sapporo, Hokkaido, Japan. Proc. 38th International Symposium on Dry Process (DPS), 27-28 (2016). | * Kengo Shinohara, Kentaro Nishida, Kouichi Ono, and Koji Eriguchi: "Effects of plasma exposure on leakage and reliability parameters of dielectric film: New measures of damage?", [http://www.dry-process.org/2016/index.html 38th International Symposium on Dry Process: DPS2016], November 21-22, 2016, Conference Hall, Hokkaido University, Sapporo, Hokkaido, Japan. Proc. 38th International Symposium on Dry Process (DPS), 27-28 (2016). | ||
2017年5月26日 (金) 16:28時点における版
篠原 健吾(Kengo Shinohara)
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- 修士2年
- メール：shinohara.kengo.88v(at)st.kyoto-u.ac.jp
研究概要
- 電気伝導解析による絶縁薄膜のプラズマ誘起欠陥形成過程の研究
学歴
- 2012年4月 京都大学 工学部 物理工学科 入学
- 2016年3月 京都大学 工学部 物理工学科 卒業
- 2016年4月 京都大学 大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻 入学
投稿論文 / Journal article
- Kengo Shinohara, Kentaro Nishida, Kouichi Ono and Koji Eriguchi: "Time-dependent dielectric breakdown characterizations of interlayer dielectric damage induced during plasma processing", Japanese Journal of Applied Physics, Volume 56, Number 6S2, 06HD03, May 2017.<doi:10.7567/JJAP.56.06HD03>
国際学会 / International conference
- Kengo Shinohara, Kentaro Nishida, Kouichi Ono, and Koji Eriguchi: "Effects of plasma exposure on leakage and reliability parameters of dielectric film: New measures of damage?", 38th International Symposium on Dry Process: DPS2016, November 21-22, 2016, Conference Hall, Hokkaido University, Sapporo, Hokkaido, Japan. Proc. 38th International Symposium on Dry Process (DPS), 27-28 (2016).
