2014年5月5日 (月) 21:22時点における版

Patrick Gage (CC BY-NC-SA)

表彰

2014

応用物理学会第12回 (2013年度) APEX/JJAP編集貢献賞

斧 高一

• 2014年4月9日
• 「英文論文誌 Applied Physics Express (APEX)/Japanese Journal of Applied Physics (JJAP) の編集 (閲読および出版) に対する多大な貢献」

応用物理学会関西支部 第2回関西奨励賞

中崎暢也

• 応用物理学会関西支部
• 2014年2月28日
• 「応用物理学会の発展・推進を目指した学術面での活発な活動」

2013

第50回日本航空宇宙学会 関西・中部支部合同秋季大会 関西支部学生賞

山田郁美

• 第50回 日本航空宇宙学会 関西・中部支部合同秋期大会
• 2013年10月25日
• 山田郁美, 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一: 「超小型高周波イオンスラスタを対象としたイオン源のプローブ測定」, 第50回日本航空宇宙学会 関西・中部支部合同秋季大会, 2013年10月25日, 大阪大学吹田キャンパス

応用物理学会第7回 （2013年度） フェロー表彰

斧 高一

• 2013年9月16日　
• 「プラズマ微細加工におけるプラズマ・表面相互作用の先駆的研究」

応用物理学会関西支部 平成25年度第1回講演会 ポスター賞（最優秀賞）

中崎暢也

• 応用物理学会関西支部 平成25年度第1回講演会
• 2013年6月13日
• 中崎暢也(D), 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一:「プラズマエッチングにおけるナノスケール表面ラフネスとリップル構造」, 応用物理学会関西支部 平成25年度第1回講演会, 2013年6月13日, 京都大学桂キャンパス, P-14.

日本航空宇宙学会第1回 (2013年度) フェロー認定

斧 高一

• 2013年4月19日　
• 「航空宇宙工学と社会および、日本航空宇宙学会の発展への顕著な貢献」

2012

第33回（2012年秋季）応用物理学会講演奨励賞

中崎暢也

• 応用物理学会　（受賞者紹介）
• 2013年3月
• 中崎暢也，津田博隆，鷹尾祥典，江利口浩二，斧高一:「分子動力学法によるSi/Cl，Si/Brビームエッチング表面反応解析：イオン入射エネルギー・角度と中性ラジカルフラックス比依存性」2012年秋季 第59回 応用物理学会学術講演会, 2012年9月11日～14日, 松山大学・愛媛大学, 13a-E3-11.

受賞記念講演

• 講演奨励賞受賞記念講演：中崎暢也，津田博隆，鷹尾祥典，江利口浩二，斧高一:「分子動力学法を用いたHBrプラズマによるSiエッチング表面反応解析」, 2013年春季 第60回 応用物理学会学術講演会, 2013年3月27日～30日, 神奈川工科大学, 27p-A3-9

DPS 2011 Young Researcher Award

津田博隆

• 33rd International Symposium on Dry Process (DPS 2011)
• 2012年11月
• Hirotaka Tsuda, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: "Modeling and Simulation of Nanoscale Surface Rippling during Plasma Etching of Si under Oblique Ion Incidence", DPS 2011, November 10-11, 2011, Kyoto Garden Palace Hotel, Kyoto, Japan.

第32回（2012年春季）応用物理学会講演奨励賞

津田博隆

• 応用物理学会　（受賞者紹介）
• 2012年9月
• 津田博隆，鷹尾祥典，江利口浩二，斧高一:「3次元原子スケールセルモデルによる表面ラフネス形成機構の解明：酸素添加依存性」2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会, 2012年3月15日～18日, 早稲田大学, 17p-A7-18.

受賞記念講演

• 講演奨励賞受賞記念講演：津田博隆, 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一:「3次元原子スケールセルモデルによる表面ラフネス形成機構の解明：酸素添加依存性 II. -イオン斜め入射時のリップル形成メカニズム-」, 2012年秋季 第73回 応用物理学会学術講演会, 2012年9月11日～14日, 愛媛大学 城北キャンパス, 13a-E3-7.

DPS 2010 Young Researcher Award

松田朝彦

• 32nd International Symposium on Dry Process (DPS 2010)
• 2011年11月
• Asahiko Matsuda, Yoshinori Nakakubo, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: "Advanced Contactless Analysis of Plasma-Induced Damage on Si by Temperature-Controlled Photoreflectance Spectroscopy", DPS 2010, November 11-12, 2010, Tokyo Institute of Technology, Japan.

第33回（2011年度）応用物理学会優秀論文賞

江利口浩二，中久保義則，松田朝彦，鷹尾祥典，斧 高一

• 応用物理学会　（受賞者紹介）
• 2011年8月
• Koji Eriguchi, Yoshinori Nakakubo, Asahiko Matsuda, Yoshinori Takao, and Kouichi Ono: "Model for Bias Frequency Effects on Plasma-Damaged Layer Formation in Si Substrates", Jpn. J. Appl. Phys. 49 (2010) 056203.

第9回（2011年度）プラズマエレクトロニクス賞

仲村恵右、濱田大輔、上田義法、江利口浩二、斧高一

「高誘電率絶縁膜 (High-k 膜) のエッチングに関して (...) 無バイアス条件で高いエッチング速度、選択性、加工精度を実現できることを初めて実証し、その機構を明らかにした。(...) 学術的価値および産業的有用性において、類似の研究の追随を許さない仕事であり、極めて高く評価できる。」

（「第９回プラズマエレクトロニクス賞の報告」プラズマエレクトロニクス分科会会報No.54 p.10）

• 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
• 2011年3月
• Keisuke Nakamura, Daisuke Hamada, Yoshinori Ueda, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: "Selective Etching of High-k Dielectric HfO₂ Films over Si in BCl₃-Containing Plasmas without rf Biasing", Appl. Phys. Express 2 (2009) 016503.

受賞記念講演等

• 仲村恵右「プラズマエレクトロニクス賞を受賞して」プラズマエレクトロニクス分科会会報No.54 p.11
• プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演：斧高一「高誘電率（High-k）材料のドライエッチング」2011年秋季 第72回応用物理学会学術講演会、山形大学、2011年8月30日

DPS 2009 Best Paper Award

江利口浩二、中久保義則、松田朝彦、亀井政幸、鷹尾祥典、斧高一

「プラズマと固体表面相互作用によって発生する半導体デバイスの特性劣化機構を解明した業績に対して」

• 31st International Symposium on Dry Process (DPS 2009)
• 2010年11月
• K. Eriguchi, Y. Nakakubo, A. Matsuda, M. Kamei, Y. Takao, K. Ono: "Threshold Voltage Instability Induced by Plasma Process Damage in Advanced MOSFETs", DPS 2009, September 24-25, 2009, Busan, Korea.

第2回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール 最優秀ポスター賞

津田博隆

• 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
• 2008年9月
• 津田博隆、森政士、太田裕朗、江利口浩二、斧高一:「原子スケールセルモデルによるSiエッチング形状シミュレーション: 微細パターン内での表面酸化と粒子挙動の解析」第2回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール, 2008年9月24日～26日, 奥琵琶湖マキノパークホテル＆セミナーハウス.

第2回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール 優秀質問者賞

津田博隆

• 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
• 2008年9月
• 第2回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール, 2008年9月24日～26日, 奥琵琶湖マキノパークホテル＆セミナーハウス.