Publications/Books and Reviews
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| − | *斧 高一: ''' | + | *[[斧 高一]]: '''先端プラズマエッチングプロセスのモデリングと体系化''', 化学工業, Vol. 61, No. 6 (2010), pp. 457-465. |
==2009== | ==2009== | ||
| − | *斧 | + | *[[斧 高一]]： '''プラズマエッチングにおける表面反応機構''', 「マイクロ・ナノデバイスのエッチング技術」, 式田光宏・佐藤一雄・田中 浩 監修 (シーエムシー出版, 2009), 第二編, 第2章, pp. 144-158. |
| − | *斧 高一, | + | *[[斧 高一]], [[江利口浩二]]： '''高誘電体／電極材料エッチング技術''', 「2009 半導体テクノロジー大全」, 月刊 Electronic Journal 別冊 (電子ジャーナル社、2009), 第4編, 第4章, 第4節, pp. 299-305. |
| − | *斧 | + | *[[斧 高一]]、[[Former faculties|高橋和生]]、[[江利口浩二]]： '''高誘電率 (High-''k'') 材料のドライエッチング''' (小特集「ドライエッチングの科学と技術の新局面」, 斧高一監修, 第4章), プラズマ・核融合学会誌, Vol. 85, No. 4 (2009), pp. 185-192. |
| − | *斧 | + | *[[斧 高一]]、[[江利口浩二]]： '''ドライエッチングのモデルとその実験検証''' (小特集「ドライエッチングの科学と技術の新局面」, 斧高一監修, 第2章), プラズマ・核融合学会誌, Vol. 85, No. 4 (2009), pp. 165-176. |
| − | *斧 | + | *[[斧 高一]]： '''High-''k''膜のドライエッチング・クリーニング技術''', 「ドライ・ウエットエッチング技術全集」, 青木良憲 企画編集 (技術情報協会, 2009), 第4章, 第6節, pp. 329-343. |
==2007== | ==2007== | ||
| − | + | * [[斧 高一]], [[鷹尾祥典]]: '''マイクロプラズマスラスター''', 応用物理, Vol. 76, No. 4 (2007) pp. 394-398 | |
| − | + | * [[斧 高一]], [[江利口浩二]]: '''高誘電体／電極材料エッチング技術''' 「2007 半導体テクノロジー大全」, 月刊 ''Electronic Journal'' 別冊 (電子ジャーナル社, 2007) 第4編, 第4章, 第4節, pp. 296-301. | |
| − | + | * 柴田俊格、宮 博信、国井泰夫、[[斧 高一]]、井上 實: '''HfO<sub>2</sub>系 High-''k'' 材料向け ''in-situ'' チャンバークリーニング技術の開発''' 大陽日酸技報, No. 26 (2007) pp. 7-11 | |
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==2006== | ==2006== | ||
| − | + | * [[斧 高一]]:'''マイクロプラズマスラスタ －MEMSへの応用例－''' 「マイクロ・ナノプラズマ技術とその産業応用」, 橘 邦英・寺嶋和夫 監修 (シーエムシー出版, 2006) 第二編, 第7章, pp. 149-164. | |
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==2005== | ==2005== | ||
| − | + | * [[斧 高一]]、福田武司: '''宇宙マイクロ・ナノ工学とシリコンナノサテライト連携研究計画''', 高温学会誌, 第31巻, 第5号 (2005) pp. 252-259. | |
| − | + | * [[Alumni|北川智洋]]、[[斧 高一]]、大沢正典、羽坂 智、井上 實: '''高誘電体材料ドライエッチングガス''', 大陽日酸技報, No. 24 (2005) pp. 8-15. | |
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==2004== | ==2004== | ||
| − | + | *[[斧 高一]]: '''高誘電体／電極材料エッチング技術''', 「2004 半導体テクノロジー大全」,月刊 ''Electronic Journal'' 別冊 (電子ジャーナル社, 2004) 第4編, 第4章, 第7節, pp. 331-335. | |
| − | + | *[[斧 高一]]: '''エッチング''', 「新改訂・表面科学の基礎と応用」, 日本表面科学会編 (エヌ・ティー・エス社, 2004) 第3編, 第1章, 第3節, 第6項, pp. 958～968. | |
| − | + | * [[斧 高一]]: '''半導体プラズマプロセスシミュレーションとTCAD''', プラズマ・核融合学会誌, Vol. 80, No. 11 (2004) pp. 909-918. | |
| − | + | * [[Former faculties|高橋和生]]、[[斧 高一]]、[[Former faculties|節原裕一]]: '''誘導結合型フルオロカーボンプラズマを用いた高誘電率 HfO<sub>2</sub>薄膜のエッチング''', 表面技術, Vol. 55, No. 12 (2004) pp. 793-799. | |
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| − | + | * [[Former faculties|高橋和生]]、[[Alumni|三田村崇司]]、[[斧 高一]]、[[Former faculties|節原裕一]]: 表面技術, Vol. 53, No. 12 (2002) pp. 71-73. | |
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==2000== | ==2000== | ||
| − | + | * [[斧 高一]]: '''エッチング反応機構''' 「次世代ULSIプロセス技術」, 広瀬全孝編 (リアライズ社, 2000) 第10章, 第10.3節, pp. 436-454. | |
| − | + | * [[斧 高一]]: '''Siドライエッチング技術''', 表面技術, Vol. 51, No.8 (2000) pp. 785-792. | |
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==1999== | ==1999== | ||
| − | + | * [[斧 高一]]: '''プラズマプロセス装置におけるプラズマ・表面相互作用 プラズマエッチング''', プラズマ・核融合学会誌, Vol. 75, No. 4 (1999) pp. 350-363. | |
| − | + | * [[斧 高一]]: '''ULSIデバイス作製プロセスにおけるプラズマ 固体表面相互作用''', 応用物理, Vol. 68, No. 5 (1999) pp. 513-519. | |
| − | + | * [[斧 高一]]: '''エッチング反応機構''', 「半導体大事典」, 管野卓雄・川西剛監修 (工業調査会, 1999) A3.4.3項, pp. 362-375. | |
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2010年7月15日 (木) 09:17時点における版
解説・著書
目次 |
2010
- 斧 高一: 先端プラズマエッチングプロセスのモデリングと体系化, 化学工業, Vol. 61, No. 6 (2010), pp. 457-465.
2009
- 斧 高一： プラズマエッチングにおける表面反応機構, 「マイクロ・ナノデバイスのエッチング技術」, 式田光宏・佐藤一雄・田中 浩 監修 (シーエムシー出版, 2009), 第二編, 第2章, pp. 144-158.
- 斧 高一, 江利口浩二： 高誘電体／電極材料エッチング技術, 「2009 半導体テクノロジー大全」, 月刊 Electronic Journal 別冊 (電子ジャーナル社、2009), 第4編, 第4章, 第4節, pp. 299-305.
- 斧 高一、高橋和生、江利口浩二： 高誘電率 (High-k) 材料のドライエッチング (小特集「ドライエッチングの科学と技術の新局面」, 斧高一監修, 第4章), プラズマ・核融合学会誌, Vol. 85, No. 4 (2009), pp. 185-192.
- 斧 高一、江利口浩二： ドライエッチングのモデルとその実験検証 (小特集「ドライエッチングの科学と技術の新局面」, 斧高一監修, 第2章), プラズマ・核融合学会誌, Vol. 85, No. 4 (2009), pp. 165-176.
- 斧 高一： High-k膜のドライエッチング・クリーニング技術, 「ドライ・ウエットエッチング技術全集」, 青木良憲 企画編集 (技術情報協会, 2009), 第4章, 第6節, pp. 329-343.
2007
- 斧 高一, 鷹尾祥典: マイクロプラズマスラスター, 応用物理, Vol. 76, No. 4 (2007) pp. 394-398
- 斧 高一, 江利口浩二: 高誘電体／電極材料エッチング技術 「2007 半導体テクノロジー大全」, 月刊 Electronic Journal 別冊 (電子ジャーナル社, 2007) 第4編, 第4章, 第4節, pp. 296-301.
- 柴田俊格、宮 博信、国井泰夫、斧 高一、井上 實: HfO2系 High-k 材料向け in-situ チャンバークリーニング技術の開発 大陽日酸技報, No. 26 (2007) pp. 7-11
2006
- 斧 高一:マイクロプラズマスラスタ －MEMSへの応用例－ 「マイクロ・ナノプラズマ技術とその産業応用」, 橘 邦英・寺嶋和夫 監修 (シーエムシー出版, 2006) 第二編, 第7章, pp. 149-164.
2005
- 斧 高一、福田武司: 宇宙マイクロ・ナノ工学とシリコンナノサテライト連携研究計画, 高温学会誌, 第31巻, 第5号 (2005) pp. 252-259.
- 北川智洋、斧 高一、大沢正典、羽坂 智、井上 實: 高誘電体材料ドライエッチングガス, 大陽日酸技報, No. 24 (2005) pp. 8-15.
2004
- 斧 高一: 高誘電体／電極材料エッチング技術, 「2004 半導体テクノロジー大全」,月刊 Electronic Journal 別冊 (電子ジャーナル社, 2004) 第4編, 第4章, 第7節, pp. 331-335.
- 斧 高一: エッチング, 「新改訂・表面科学の基礎と応用」, 日本表面科学会編 (エヌ・ティー・エス社, 2004) 第3編, 第1章, 第3節, 第6項, pp. 958～968.
- 斧 高一: 半導体プラズマプロセスシミュレーションとTCAD, プラズマ・核融合学会誌, Vol. 80, No. 11 (2004) pp. 909-918.
- 高橋和生、斧 高一、節原裕一: 誘導結合型フルオロカーボンプラズマを用いた高誘電率 HfO2薄膜のエッチング, 表面技術, Vol. 55, No. 12 (2004) pp. 793-799.
2002
2000
- 斧 高一: エッチング反応機構 「次世代ULSIプロセス技術」, 広瀬全孝編 (リアライズ社, 2000) 第10章, 第10.3節, pp. 436-454.
- 斧 高一: Siドライエッチング技術, 表面技術, Vol. 51, No.8 (2000) pp. 785-792.