Publications/Books and Reviews
京大推進研
解説・著書
目次 |
2010
- Koji Eriguchi, Masayuki Kamei, Kenji Okada, Hiroaki Ohta, and Kouichi Ono: Chapter 7 "Threshold Voltage Shift Instability Induced by Plasma Charging Damage in MOSFETs with High-k Dielectric", in Emerging Technologies and Circuits. Edited by A. Amara et al. Lecture Notes in Electrical Engineering 66. (Springer, 2010) Part IV, pp. 97-106. ISBN 978-90-481-9378-3.
- Yoshinori Nakakubo, Asahiko Matsuda, Masayuki Kamei, Hiroaki Ohta, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: Chapter 8 "Analysis of Si Substrate Damage Induced by Inductively Coupled Plasma Reactor with Various Superposed Bias Frequencies", in Emerging Technologies and Circuits. Edited by A. Amara et al. Lecture Notes in Electrical Engineering 66 (Springer, 2010) Part IV, pp. 107-120. ISBN 978-90-481-9378-3.
- 斧 高一: 先端プラズマエッチングプロセスのモデリングと体系化, 化学工業, Vol. 61, No. 6 (2010), pp. 457-465. http://www.kako-sha.co.jp/
2009
- 斧 高一: プラズマエッチングにおける表面反応機構, 「マイクロ・ナノデバイスのエッチング技術」, 式田光宏・佐藤一雄・田中 浩 監修 (シーエムシー出版, 2009), 第二編, 第2章, pp. 144-158. ISBN 978-4-7813-0167-9
- 斧 高一, 江利口浩二: 高誘電体/電極材料エッチング技術, 「2009 半導体テクノロジー大全」, 月刊 Electronic Journal 別冊 (電子ジャーナル社、2009), 第4編, 第4章, 第4節, pp. 299-305. http://www.electronicjournal.co.jp/otherbooks/s062.html
- 斧 高一、高橋和生、江利口浩二: 高誘電率 (High-k) 材料のドライエッチング (小特集「ドライエッチングの科学と技術の新局面」, 斧高一監修, 第4章), プラズマ・核融合学会誌, Vol. 85, No. 4 (2009), pp. 185-192. http://www.jspf.or.jp/journal/bn85.html
- 斧 高一、江利口浩二: ドライエッチングのモデルとその実験検証 (小特集「ドライエッチングの科学と技術の新局面」, 斧高一監修, 第2章), プラズマ・核融合学会誌, Vol. 85, No. 4 (2009), pp. 165-176. http://www.jspf.or.jp/journal/bn85.html
- 斧 高一: High-k膜のドライエッチング・クリーニング技術, 「ドライ・ウエットエッチング技術全集」, 青木良憲 企画編集 (技術情報協会, 2009), 第4章, 第6節, pp. 329-343.
2007
- 斧 高一, 鷹尾祥典: マイクロプラズマスラスター, 応用物理, Vol. 76, No. 4 (2007) pp. 394-398. http://www.jsap.or.jp/ap/
- 斧 高一, 江利口浩二: 高誘電体/電極材料エッチング技術 「2007 半導体テクノロジー大全」, 月刊 Electronic Journal 別冊 (電子ジャーナル社, 2007) 第4編, 第4章, 第4節, pp. 296-301. http://www.electronicjournal.co.jp/otherbooks/s032.html
- 柴田俊格、宮 博信、国井泰夫、斧 高一、井上 實: HfO2系 High-k 材料向け in-situ チャンバークリーニング技術の開発 大陽日酸技報, No. 26 (2007) pp. 7-11. http://www.tn-sanso-giho.com/report26.html
2006
- 斧 高一:マイクロプラズマスラスタ -MEMSへの応用例- 「マイクロ・ナノプラズマ技術とその産業応用」, 橘 邦英・寺嶋和夫 監修 (シーエムシー出版, 2006) 第二編, 第7章, pp. 149-164.
2005
- 斧 高一、福田武司: 宇宙マイクロ・ナノ工学とシリコンナノサテライト連携研究計画, 高温学会誌, 第31巻, 第5号 (2005) pp. 252-259.
- 北川智洋、斧 高一、大沢正典、羽坂 智、井上 實: 高誘電体材料ドライエッチングガス, 大陽日酸技報, No. 24 (2005) pp. 8-15.
2004
- 斧 高一: 高誘電体/電極材料エッチング技術, 「2004 半導体テクノロジー大全」,月刊 Electronic Journal 別冊 (電子ジャーナル社, 2004) 第4編, 第4章, 第7節, pp. 331-335.
- 斧 高一: エッチング, 「新改訂・表面科学の基礎と応用」, 日本表面科学会編 (エヌ・ティー・エス社, 2004) 第3編, 第1章, 第3節, 第6項, pp. 958~968.
- 斧 高一: 半導体プラズマプロセスシミュレーションとTCAD, プラズマ・核融合学会誌, Vol. 80, No. 11 (2004) pp. 909-918.
- 高橋和生、斧 高一、節原裕一: 誘導結合型フルオロカーボンプラズマを用いた高誘電率 HfO2薄膜のエッチング, 表面技術, Vol. 55, No. 12 (2004) pp. 793-799.
2002
- 高橋和生、三田村崇司、斧 高一、節原裕一: プラズマCVDと溶媒処理を用いたフルオロカーボン系多孔質構造Low-K薄膜の作成, 表面技術, Vol. 53, No. 12 (2002) pp. 71-73. http://wwwsoc.nii.ac.jp/sfj/mokuji53-12.htm
2000
- 斧 高一: エッチング反応機構 「次世代ULSIプロセス技術」, 広瀬全孝編 (リアライズ社, 2000) 第10章, 第10.3節, pp. 436-454.
- 斧 高一: Siドライエッチング技術, 表面技術, Vol. 51, No.8 (2000) pp. 785-792.