Research

京大推進研

（版間での差分）

2017年6月20日 (火) 16:02時点における最新版

当研究室では，宇宙工学，電離気体工学の中心である"プラズマ応用"に主眼を置き，プラズマと接する固体表面・界面でのナノスケール反応機構の理解・応用を目的とした研究を行っています．プラズマ物理，表面反応物理，薄膜固体物理，信頼性物理を基礎とし，特にプラズマ中の原子分子・電子・イオン・フォトンと，絶縁膜・半導体・金属材料とのナノスケール相互作用の解明を通して，プラズマの工学的応用ならびに極限環境下で高機能・高信頼性を実現する新材料，機能素子，システム設計を探求しています．

主な研究テーマ

１．極限環境下における固体表面界面のナノスケール反応機構に関する研究：

　　プラズマと固体（絶縁膜，半導体，金属）表面とのナノスケール相互作用は，その材料物性のみならず，システム全体の信頼性寿命に影響します．

　　原子レベルでプラズマ－固体表面反応を理解することで，極限環境下での材料腐食などを予測・制御することを目指します．

　（例：イオンエネルギー・フラックス最適化，統計的ばらつき・ゆらぎ最適制御設計，分子動力学・量子化学計算科学など）

２．極限環境下で用いられる新機能材料創製とその信頼性物理に関する研究：

　　宇宙空間のような極環境下において高性能・高信頼性を達成する新しい材料・デバイス設計を実現します．

　（例：宇宙用途を鑑みた耐プラズマ性・超硬度特性をもつ薄膜BN構造材料設計，耐放射線性をもつ抵抗変化型メモリデバイスの高信頼性設計など）

３．新機能材料設計のための新しい電気的・光学的物性解析手法の研究：

　　高信頼性材料設計を可能にする，誘電関数・量子トンネル過程に着目した新しい解析・設計手法を実現します．

　（例：ナノ領域での新変調反射率分光・キャリア捕獲準位密度定量化など）

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-[[画像:Threepillars.png|thumb|350px|プラズマ・宇宙・半導体]]
+当研究室では，宇宙工学，電離気体工学の中心である"プラズマ応用"に主眼を置き，プラズマと接する固体表面・界面でのナノスケール反応機構の理解・応用を目的とした研究を行っています．プラズマ物理，表面反応物理，薄膜固体物理，信頼性物理を基礎とし，特にプラズマ中の原子分子・電子・イオン・フォトンと，絶縁膜・半導体・金属材料とのナノスケール相互作用の解明を通して，プラズマの工学的応用ならびに極限環境下で高機能・高信頼性を実現する新材料，機能素子，システム設計を探求しています．
+===主な研究テーマ===
+: １．極限環境下における固体表面界面のナノスケール反応機構に関する研究：
+: 　　プラズマと固体（絶縁膜，半導体，金属）表面とのナノスケール相互作用は，その材料物性のみならず，システム全体の信頼性寿命に影響します．
+: 　　原子レベルでプラズマ－固体表面反応を理解することで，極限環境下での材料腐食などを予測・制御することを目指します．
+: 　（例：イオンエネルギー・フラックス最適化，統計的ばらつき・ゆらぎ最適制御設計，分子動力学・量子化学計算科学など）
+: ２．極限環境下で用いられる新機能材料創製とその信頼性物理に関する研究：
+: 　　宇宙空間のような極環境下において高性能・高信頼性を達成する新しい材料・デバイス設計を実現します．
+: 　（例：宇宙用途を鑑みた耐プラズマ性・超硬度特性をもつ薄膜BN構造材料設計，耐放射線性をもつ抵抗変化型メモリデバイスの高信頼性設計など）
+: ３．新機能材料設計のための新しい電気的・光学的物性解析手法の研究：
+: 　　高信頼性材料設計を可能にする，誘電関数・量子トンネル過程に着目した新しい解析・設計手法を実現します．
+: 　（例：ナノ領域での新変調反射率分光・キャリア捕獲準位密度定量化など）
+<!--[[画像:Threepillars.png|thumb|350px|プラズマ・宇宙・半導体]]
 [[画像:ICP.jpg|thumb|250px|誘導結合型プラズマ]]
 航空宇宙機の推進に関連する作業媒質である '''電離気体（プラズマ）''' に関する基礎研究並びに応用研究をおこなっています。それらの力学的性質と共に、構成要素である原子分子やイオンの気相中での反応過程並びに固体表面との相互作用に関する研究にも重点を置いています。
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 ====大規模スケール分子動力学 (MD) 法====
-分子動力学（Molecular Dynamics）法を駆使し、Cl<sub>2</sub>/O<sub>2</sub> 混合プラズマによる Si エッチングにおける表面反応を追跡しています。これまでの研究により、エッチング時の微小な表面ラフネス形成の形成メカニズムを明らかにしました。このラフネスは、さらに大きなスケール（ナノ～マイクロオーダー）のラフネス形成を誘発すると考えられ、今後のデバイス開発においては、こうした微小な表面ラフネスの正確な制御が強く要求されます。
+分子動力学（Molecular Dynamics）法を駆使し、Cl<sub>2</sub>/O<sub>2</sub> 混合プラズマによる Si エッチングにおける表面反応を追跡しています。これまでの研究により、エッチング時の微小な表面ラフネス形成の形成メカニズムを明らかにしました。このラフネスは、さらに大きなスケール（ナノ～マイクロオーダー）のラフネス形成を誘発すると考えられ、今後のデバイス開発においては、こうした微小な表面ラフネスの正確な制御が強く要求されます。-->