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: A Study on Physical Property Changes in Dielectric and Semiconductor Materials Induced by Ion Irradiation During Plasma Processing<br>(プラズマプロセス中のイオン照射により誘起される絶縁体および半導体材料の物性変化に関する研究)
 
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: A Study on Plasma Process-Induced Defect Creation in Si-Based Devices<br>(シリコン系デバイスにおけるプラズマプロセス誘起欠陥生成に関する研究)
 
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==2016年3月==
 
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;[[Member:Nakazaki|中崎 暢也 (Nobuya Nakazaki)]] {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/215513}}
 
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2023年2月18日 (土) 22:40時点における版

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博士論文

目次

2016年3月

中崎 暢也 (Nobuya Nakazaki)  PDF KURENAI repository  
A Study of Plasma-Induced Surface Roughness and Ripple Formation during Silicon Etching in Inductively Coupled Chlorine Plasmas
(誘導結合塩素プラズマを用いたシリコンエッチングにおけるプラズマ誘起表面ラフネスとリップル形成に関する研究)

2015年5月

中久保 義則 (Yoshinori Nakakubo)  PDF KURENAI repository  
A study of defect generation phenomena in single crystalline silicon substrate during plasma processing and the characterization techniques
(プラズマ暴露によるシリコン単結晶基板中の欠陥生成メカニズム及びその評価技術の研究)

2013年11月

丸本 健二 (Kenji Marumoto)  PDF KURENAI repository  
低応力X線吸収体の成膜とX線マスクのパターン位置精度の向上に関する研究 (論文)

2013年5月

津田 博隆 (Hirotaka Tsuda)  PDF KURENAI repository  
Atomic-Scale Analysis of Plasma-Surface Interactions and Formation Mechanisms of Profile Anomalies and Surface Roughness during Plasma Etching of Silicon
(シリコンエッチングにおけるプラズマ・表面相互作用と形状異常および表面ラフネス形成機構の原子スケール解析)
松田 朝彦 (Asahiko Matsuda)  PDF KURENAI repository  
A Study on Plasma Process-Induced Damage during Fabrication of Si Devices and Methodology for Optical Measurement
(Siデバイス製造過程におけるプラズマプロセス誘起ダメージとその光学的測定方法論の研究)

2012年5月

福本 浩志 (Hiroshi Fukumoto)  PDF KURENAI repository  
Model Analysis of Plasma-Surface Interactions during Silicon Oxide Etching in Fluorocarbon Plasmas
(フルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ-表面相互作用の数値解析)

2011年9月

高橋 岳志 (Takeshi Takahashi)  PDF KURENAI repository  
Numerical and Experimental Study of Performance Improvement of a Microwave-Excited Microplasma Thruster Designed for Small Spacecraft
(小型宇宙機用マイクロ波励起マイクロプラズマスラスタの性能向上に関する数値的・実験的研究)

2008年3月

杉原 浩平 (Kohei Sugihara)  PDF KURENAI repository  
エレベイテッドソース・ドレイン技術による微細MOSFETの高性能化に関する研究 (論文)

2008年1月

枝村 学 (Manabu Edamura)  PDF KURENAI repository  
誘導結合型プラズマエッチング装置におけるプラズマ制御の高度化に関する研究 (論文)

2007年3月

鷹尾 祥典 (Yoshinori Takao)  PDF KURENAI repository  
Development of a Miniature Electrothermal Thruster Using Microwave-Excited Microplasmas for Ultra Small Satellites
(マイクロ波励起マイクロプラズマを用いた超小型人工衛星のための電熱加速型推進機の研究開発)

2006年9月

小佐野 祐吾 (Yugo Osano)  PDF KURENAI repository  
An Atomic Scale Model of Plasma-Surface Interactions and Numerical Analysis of the Feature Profile Evolution during Silicon Etching in Chlorine-Containing Plasmas
(塩素系プラズマによるシリコンエッチングにおけるプラズマ・表面相互作用の原子スケールモデルと形状進展の数値解析)

2004年3月

津田 睦 (Mutsumi Tsuda)  PDF KURENAI repository  
A Study of Plasma-Surface Interactions in Plasma Etching with Chlorine- and Bromine-based Chemistries
(塩素および臭素系プラズマエッチングにおけるプラズマと表面との相互作用に関する研究)(論文)

2003年7月

上坂 裕之 (Hiroyuki Kosaka)  PDF KURENAI repository  
Numerical Studies of the Electromagnetic Fields and Plasma Properties in a Microwave Plasma Source Excited by Azimuthally Symmetric Surface Waves
(軸対称表面波励起マイクロ波プラズマ源における電磁界とプラズマ特性に関する数値的研究)