Member:Goya
京大推進研
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| + | # '''Takahiro Goya'''(D2), Atsushi Kawashima, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "Characterization of H2-plasma-induced damage in InP substrates using optical and electrical methods" [http://www.dry-process.org/2023/index.html 44th International Symposium on Dry Process: DPS2023], November 21-22, 2023, , I-2. Winc Aichi, [Oral] | ||
# '''Takahiro Goya'''(D1), Yoshinori Kodama, Atsushi Kawashima, Yoshifumi Zaizen, Masanaga Fukasawa, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "Characterization methods of plasma process-induced damage to InP structures" [http://www.dry-process.org/2022/index.html 43rd International Symposium on Dry Process: DPS2022], November 24-25, 2022, Osaka International Convention Center & Online, F-2. [Oral] | # '''Takahiro Goya'''(D1), Yoshinori Kodama, Atsushi Kawashima, Yoshifumi Zaizen, Masanaga Fukasawa, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "Characterization methods of plasma process-induced damage to InP structures" [http://www.dry-process.org/2022/index.html 43rd International Symposium on Dry Process: DPS2022], November 24-25, 2022, Osaka International Convention Center & Online, F-2. [Oral] | ||
# '''Takahiro Goya'''(D1), Yoshinori Kodama, Atsushi Kawashima, Yoshifumi Zaizen, Masanaga Fukasawa, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "Quantitative Characterization of Plasma-Induced Defect Creation in InP Substrates Using Conductance Analysis" [https://avs68.avs.org/ AVS 68th International Symposium & Exhibition], November 6-11, 2022, David L. Lawrence Convention Center, Pittsburgh, PA, PS2+TF-WeM-4. [Oral] | # '''Takahiro Goya'''(D1), Yoshinori Kodama, Atsushi Kawashima, Yoshifumi Zaizen, Masanaga Fukasawa, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "Quantitative Characterization of Plasma-Induced Defect Creation in InP Substrates Using Conductance Analysis" [https://avs68.avs.org/ AVS 68th International Symposium & Exhibition], November 6-11, 2022, David L. Lawrence Convention Center, Pittsburgh, PA, PS2+TF-WeM-4. [Oral] | ||
| − | #'''Takahiro Goya'''(M2), Tomohiro Kuyama, Keiichiro Urabe, and Koji | + | #'''Takahiro Goya'''(M2), Tomohiro Kuyama, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "A nanoindentation-based statistical evaluation scheme for mechanical property change in plasma-irradiated dielectric films" [http://www.dry-process.org/2021/index.html/ 42nd International Symposium on Dry Process: DPS2021], November 18-19, 2021, On-line, E-3. [Oral] |
==国内学会 / Domestic conferences== | ==国内学会 / Domestic conferences== | ||
| + | #'''郷矢崇浩'''(D2)，占部継一郎，江利口浩二 「プラズマ誘起ダメージが繰り返しナノインデンテーション粘弾性特性に及ぼす影響」，[https://meeting.jsap.or.jp/ 第71回応用物理学会春季学術講演会]，2024年3月22日～25日，東京都市大学世田谷キャンパス&オンライン，24a-61B-6. | ||
| + | #'''郷矢崇浩'''(D2)，占部継一郎，江利口浩二 「プラズマダメージを受けたシリコン窒化膜機械特性に対するマイクロ波照射効果」，[https://meeting.jsap.or.jp/ 第84回応用物理学会秋季学術講演会]，2023年9月19日～23日，熊本城ホールと周辺3会場+オンライン，21p-A302-9. | ||
| + | #'''郷矢崇浩'''(D1)，占部継一郎，江利口浩二 「繰り返しナノインデンテーション法による低誘電率絶縁膜の機械的構造変化の解析」，[https://meeting.jsap.or.jp/ 第70回応用物理学会春季学術講演会]，2023年3月15日～18日，上智大学四谷キャンパス+オンライン，17p-A205-9. | ||
#'''郷矢崇浩'''(D1)，占部継一郎，江利口浩二 「プラズマ曝露による欠陥構造がシリコン窒化膜の機械特性変化に及ぼす影響」，[https://meeting.jsap.or.jp/ 第83回応用物理学会秋季学術講演会]，2022年9月20日～23日，ハイブリッド開催，22p-A406-2. | #'''郷矢崇浩'''(D1)，占部継一郎，江利口浩二 「プラズマ曝露による欠陥構造がシリコン窒化膜の機械特性変化に及ぼす影響」，[https://meeting.jsap.or.jp/ 第83回応用物理学会秋季学術講演会]，2022年9月20日～23日，ハイブリッド開催，22p-A406-2. | ||
#'''郷矢崇浩'''(M2)，久山智弘，占部継一郎，江利口浩二 「シリコン窒化膜に形成されるプラズマダメージの機械特性評価と電気特性評価との相関に関する検討」，[https://meeting.jsap.or.jp/ 第69回応用物理学会春季学術講演会]，2022年3月22日～26日，ハイブリッド開催，25a-E104-2. | #'''郷矢崇浩'''(M2)，久山智弘，占部継一郎，江利口浩二 「シリコン窒化膜に形成されるプラズマダメージの機械特性評価と電気特性評価との相関に関する検討」，[https://meeting.jsap.or.jp/ 第69回応用物理学会春季学術講演会]，2022年3月22日～26日，ハイブリッド開催，25a-E104-2. | ||
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==その他学会発表 / Other conferences== | ==その他学会発表 / Other conferences== | ||
#Junki Morozumi, '''Takahiro Goya'''(D1), Koji Eriguchi, and Keiichiro Urabe: "In-situ electrical monitoring of SiO2/Si structures in low-temperature plasma using impedance spectroscopy" [http://www.dry-process.org/2022/index.html 43rd International Symposium on Dry Process: DPS2022], November 24-25, 2022, Osaka International Convention Center & Online, E-2. | #Junki Morozumi, '''Takahiro Goya'''(D1), Koji Eriguchi, and Keiichiro Urabe: "In-situ electrical monitoring of SiO2/Si structures in low-temperature plasma using impedance spectroscopy" [http://www.dry-process.org/2022/index.html 43rd International Symposium on Dry Process: DPS2022], November 24-25, 2022, Osaka International Convention Center & Online, E-2. | ||
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2024年4月8日 (月) 14:32時点における最新版
郷矢 崇浩 (Takahiro Goya)
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- 博士課程3年
- 所属学会 : 応用物理学会 (The Japan Society of Applied Physics: JSAP)
- 研究室内役職 : 安全，学会，総務 係
研究概要 / Study
- プラズマダメージによる絶縁体薄膜機械特性変化の評価手法確立とその機構解明
- 化合物半導体（InP）に対するプラズマダメージの評価および解析
学歴 / Education
- 2016年4月 大阪府立大学 工学域 機械系学類 入学
- 2020年3月 大阪府立大学 工学域 機械系学類 航空宇宙工学課程 卒業
- 2020年4月 京都大学 工学研究科 航空宇宙工学専攻 修士課程 入学
- 2022年3月 京都大学 工学研究科 航空宇宙工学専攻 修士課程 修了
- 2022年4月 京都大学 工学研究科 航空宇宙工学専攻 博士課程 入学
国際学会 / International conferences
- Takahiro Goya(D2), Atsushi Kawashima, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "Characterization of H2-plasma-induced damage in InP substrates using optical and electrical methods" 44th International Symposium on Dry Process: DPS2023, November 21-22, 2023, , I-2. Winc Aichi, [Oral]
- Takahiro Goya(D1), Yoshinori Kodama, Atsushi Kawashima, Yoshifumi Zaizen, Masanaga Fukasawa, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "Characterization methods of plasma process-induced damage to InP structures" 43rd International Symposium on Dry Process: DPS2022, November 24-25, 2022, Osaka International Convention Center & Online, F-2. [Oral]
- Takahiro Goya(D1), Yoshinori Kodama, Atsushi Kawashima, Yoshifumi Zaizen, Masanaga Fukasawa, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "Quantitative Characterization of Plasma-Induced Defect Creation in InP Substrates Using Conductance Analysis" AVS 68th International Symposium & Exhibition, November 6-11, 2022, David L. Lawrence Convention Center, Pittsburgh, PA, PS2+TF-WeM-4. [Oral]
- Takahiro Goya(M2), Tomohiro Kuyama, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi: "A nanoindentation-based statistical evaluation scheme for mechanical property change in plasma-irradiated dielectric films" 42nd International Symposium on Dry Process: DPS2021, November 18-19, 2021, On-line, E-3. [Oral]
国内学会 / Domestic conferences
- 郷矢崇浩(D2)，占部継一郎，江利口浩二 「プラズマ誘起ダメージが繰り返しナノインデンテーション粘弾性特性に及ぼす影響」，第71回応用物理学会春季学術講演会，2024年3月22日～25日，東京都市大学世田谷キャンパス&オンライン，24a-61B-6.
- 郷矢崇浩(D2)，占部継一郎，江利口浩二 「プラズマダメージを受けたシリコン窒化膜機械特性に対するマイクロ波照射効果」，第84回応用物理学会秋季学術講演会，2023年9月19日～23日，熊本城ホールと周辺3会場+オンライン，21p-A302-9.
- 郷矢崇浩(D1)，占部継一郎，江利口浩二 「繰り返しナノインデンテーション法による低誘電率絶縁膜の機械的構造変化の解析」，第70回応用物理学会春季学術講演会，2023年3月15日～18日，上智大学四谷キャンパス+オンライン，17p-A205-9.
- 郷矢崇浩(D1)，占部継一郎，江利口浩二 「プラズマ曝露による欠陥構造がシリコン窒化膜の機械特性変化に及ぼす影響」，第83回応用物理学会秋季学術講演会，2022年9月20日～23日，ハイブリッド開催，22p-A406-2.
- 郷矢崇浩(M2)，久山智弘，占部継一郎，江利口浩二 「シリコン窒化膜に形成されるプラズマダメージの機械特性評価と電気特性評価との相関に関する検討」，第69回応用物理学会春季学術講演会，2022年3月22日～26日，ハイブリッド開催，25a-E104-2.
- 郷矢崇浩(M2)，久山智弘，占部継一郎，江利口浩二 「シリコン窒化膜のプラズマ曝露による機械特性変化評価手法の提案」，第82回応用物理学会秋季学術講演会，2021年9月10日～13日，オンライン開催，12a-N102-6.
その他学会発表 / Other conferences
- Junki Morozumi, Takahiro Goya(D1), Koji Eriguchi, and Keiichiro Urabe: "In-situ electrical monitoring of SiO2/Si structures in low-temperature plasma using impedance spectroscopy" 43rd International Symposium on Dry Process: DPS2022, November 24-25, 2022, Osaka International Convention Center & Online, E-2.
