中崎 暢也 (Nobuya Nakazaki)

• 修士課程2年
• メール：nakazaki.nobuya.58xst.kyoto-u.ac.jp
• 所属学会：応用物理学会 (JSAP)
• 研究室内役職：OA委員、学会係
• 学生実験TA

学歴 / Education

• 2007年3月　私立洛星高等学校 卒業
• 2007年4月　京都大学 工学部 物理工学科 入学
• 2011年3月　京都大学 工学部 物理工学科 （宇宙基礎工学コース） 卒業
• 2011年4月　京都大学 大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻 修士課程 入学
• 2013年3月　京都大学 大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻 修士課程 修了
• 2013年4月　京都大学 大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻 博士後期課程 進学

キーワード / Key words

• Plasma-surface interaction, Plasma etching, Molecular dynamics (MD)

お知らせ / What's New

• 2013/02/08　修士論文発表会にて発表を行いました
• 2013/02/01　修士論文を提出しました
• 2013/01/21　第30回プラズマプロセシング研究会（SPP-30） にて口頭発表を行いました
• 2012/11/16　DPS 2012 にてポスター発表を行いました
• 2012/10/30　AVS 2012 にて口頭発表を行いました

• 2013/02/10 更新

研究 / Research

分子動力学（Molecular Dynamics: MD）法を用いて、プラズマエッチング時の表面反応のシミュレーションを行っています。

国際学会 / International conferences

2012

• Nobuya Nakazaki(M2), Hirotaka Tsuda, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: "Molecular Dynamics Analysis of Surface Structure and Etch Products in Si/Cl and Si/Br Systems", 34th International Symposium on Dry Process (DPS 2012), November 15-16, 2012, Takeda Hall, Takeda Sentanchi Building, The University of Tokyo, Tokyo, Japan, P-33, Proc. 34th Int. Symp. Dry Process, p. 91.
• Nobuya Nakazaki(M2), Hirotaka Tsuda, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: "Molecular Dynamics Analysis of Si Etching with Cl and Br Beams: Ion Incident Angle and Neutral Radical Flux Dependence", AVS 59th International Symposium & Exhibition, October 28-November 2, 2012, Tampa Convention Center, Florida, USA, PS2-TuA10
• Nobuya Nakazaki(M2), Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: "Molecular Dynamics Analysis of Physical and Chemical Behavior of Etch Products Desorbed during Si Etching in Cl- and Br-based Plasmas", The 65th Annual Gaseous Electronics Conference (GEC), October 22-26, 2012, the AT&T Conference Center on The University of Texas at Austin campus in Austin, Texas, USA, HW2-5, Bull. Am. Phys. Soc. 57(8) p. 46.
• Nobuya Nakazaki(M2), Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: "Molecular Dynamics Analysis of Si Etching in Cl- and Br-based Plasmas", The 11th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology (APCPST) and 25th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM), October 2-5, 2012, Kyoto University ROHM Plaza, Kyoto, Japan, 2-P28. Abstracts, p.266.
• Nobuya Nakazaki(M1), Hirotaka Tsuda, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: "Molecular Dynamics Analysis of Si Etching with Cl beams: Ion Incident Angle and Neutral Radical Flux Dependence" , The 5th International Conference on Plasma-Nanotechnology & Science (IC-PLANTS 2012), March 9-10, 2012, Freude, Inuyama International Sightseeing Center, Aichi, Japan, S-2. IC-PLANTS 2012 The 5th International Conference on Plasma-Nanotechnology & Science, 2012, pp. P-36.

2011

• Nobuya Nakazaki (M1), Hirotaka Tsuda, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: "Molecular Dynamics Analysis of Ion Incident Energy and Angle Dependences of Si etching with Cl, Br, and HBr beams", 64th Annual Gaseous Electronics Conference, November 15–18, 2011, Salt Palace Convention Center, Salt Lake City, Utah, USA, NR1-11, Bull. Am. Phys. Soc. 56(15) p. 64.
• Nobuya Nakazaki (M1), Hirotaka Tsuda, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: "Molecular Dynamics Analysis of Ion Incident Energy and Angle Dependence of Si etching with Cl, Br, and HBr beams", 33rd International Symposium on Dry Process (DPS 2011), November 10-11, 2011, Kyoto Garden Palace Hotel, Kyoto, Japan, P1-16, Proc. 33rd Int. Symp. Dry Process, p. 53.

国内学会 / Domestic conferences

2013

• 中崎暢也(M2), 津田博隆, 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一:「分子動力学法によるSi/Cl，Si/Br プラズマエッチングの解析： 表面反応層内の原子分布と結合状態」, 第30回プラズマプロセシング研究会（SPP-30）, 2013年1月21日～23日, アクトシティ浜松・研修交流センター, B1-02.

2012

• 中崎暢也(M2), 津田博隆, 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一:「分子動力学法によるSi/Cl, Si/Brビームエッチング表面反応解析: イオン入射エネルギー･角度と中性ラジカルフラックス比依存性」, 2012年秋季 第73回 応用物理学会学術講演会, 2012年9月11日～14日, 愛媛大学, 13a-E3-11.
• 中崎暢也(M1), 津田博隆, 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一:「分子動力学法を用いたSi/Clビームエッチング表面反応解析：イオン入射角度依存性と中性ラジカルフラックス依存性」第59回 応用物理学関係連合講演会, 2012年3月15日～18日, 早稲田大学, 17p-A7-15.

2011

• 中崎暢也(M1), 津田博隆, 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一:「分子動力学法を用いたSiエッチング表面反応解析: 中性ラジカル付加とイオンビーム入射角度依存性」, プラズマ・核融合学会第28回年会/応用物理学会第29回プラズマプロセシング研究会/日本物理学会(領域2)2011年秋季大会 / Plasma Conference 2011 (PLASMA2011), 2011年11月22日～25日, 石川県立音楽堂, 22B01.
• 中崎暢也(M1), 谷口健, 津田博隆, 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一:「分子動力学法を用いたSiエッチング表面反応解析：Cl,Br,HBrビームエッチングにおけるイオン入射角度依存性及び入射エネルギー依存性」, 2011年秋季 第72回 応用物理学会学術講演会, 2011年8月29日～9月2日, 山形大学小白川キャンパス, 30a-M-12.
• 中崎暢也(B4), 谷口健, 津田博隆, 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一:「分子動力学法を用いたSiエッチング表面反応解析：Cl,Br,HBrビームエッチングにおけるイオン入射角度依存性」, 2011年度春季 第58回 応用物理学関係連合講演会, 2011/03/24～27, 神奈川工科大学. (講演会中止)

学位論文題目

学部卒業研究　(2010年度, 2011年3月)

「分子動力学法を用いた Si エッチング表面反応解析：Cl, Br, HBr ビームエッチングにおけるイオン入射角度依存性及び入射エネルギー依存性」

修士論文　(2012年度, 2013年3月)

"Molecular Dynamics Analysis of Surface Reaction Kinetics during Si Etching in Cl- and Br-based Plasmas: Dependence on Incident Ion Energy, Angle, and Neutral Radical-to-Ion Flux Ratio"
(分子動力学法によるSiの塩素系・臭素系プラズマエッチング表面反応解析：イオン入射エネルギー・角度と中性ラジカルフラックス比依存性)

Links

研究室ブログ（Propulblog）やってます。

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