Member:Shinohara

京大推進研

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==研究概要==
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==研究概要 / Research content==
 
* 電気伝導解析による絶縁薄膜のプラズマ誘起欠陥形成過程の研究
 
* 電気伝導解析による絶縁薄膜のプラズマ誘起欠陥形成過程の研究
  
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== 学歴 / Education==
 
*2012年4月 京都大学 工学部 物理工学科 入学
 
*2012年4月 京都大学 工学部 物理工学科 入学
*2016年3月 京都大学 工学部 物理工学科 卒業
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*2016年3月 京都大学 工学部 物理工学科(宇宙基礎工学コース)卒業
 
*2016年4月 京都大学 大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻 入学
 
*2016年4月 京都大学 大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻 入学
  
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== 国際学会 / International conference ==
 
== 国際学会 / International conference ==
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* Kengo Shinohara, Kentaro Nishida, Kouichi Ono, and Koji Eriguchi: "Effects of plasma exposure on leakage and reliability parameters of dielectric film: New measures of damage?", [http://www.dry-process.org/2016/index.html  38th International Symposium on Dry Process: DPS2016], November 21-22, 2016, Conference Hall, Hokkaido University, Sapporo, Hokkaido, Japan. Proc. 38th International Symposium on Dry Process (DPS), 27-28 (2016).
 
* Kengo Shinohara, Kentaro Nishida, Kouichi Ono, and Koji Eriguchi: "Effects of plasma exposure on leakage and reliability parameters of dielectric film: New measures of damage?", [http://www.dry-process.org/2016/index.html  38th International Symposium on Dry Process: DPS2016], November 21-22, 2016, Conference Hall, Hokkaido University, Sapporo, Hokkaido, Japan. Proc. 38th International Symposium on Dry Process (DPS), 27-28 (2016).
  

2017年5月31日 (水) 18:13時点における最新版

篠原 健吾 / Kengo Shinohara

目次

  • 修士2年
  • メール:shinohara.kengo.88v(at)st.kyoto-u.ac.jp

研究概要 / Research content

  • 電気伝導解析による絶縁薄膜のプラズマ誘起欠陥形成過程の研究

学歴 / Education

  • 2012年4月 京都大学 工学部 物理工学科 入学
  • 2016年3月 京都大学 工学部 物理工学科(宇宙基礎工学コース)卒業
  • 2016年4月 京都大学 大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻 入学

投稿論文 / Journal article

  • Kengo Shinohara, Kentaro Nishida, Kouichi Ono and Koji Eriguchi: "Time-dependent dielectric breakdown characterizations of interlayer dielectric damage induced during plasma processing", Japanese Journal of Applied Physics, Volume 56, Number 6S2, 06HD03, May 2017.<doi:10.7567/JJAP.56.06HD03>

国際学会 / International conference

  • Kengo Shinohara, Kentaro Nishida, Kouichi Ono, and Koji Eriguchi: "Effects of plasma exposure on leakage and reliability parameters of dielectric film: New measures of damage?", 38th International Symposium on Dry Process: DPS2016, November 21-22, 2016, Conference Hall, Hokkaido University, Sapporo, Hokkaido, Japan. Proc. 38th International Symposium on Dry Process (DPS), 27-28 (2016).