Member:Fukushima
京大推進研
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*メール：fukushima.daisuke.36a@st.kyoto-u.ac.jp | *メール：fukushima.daisuke.36a@st.kyoto-u.ac.jp | ||
*所属学会：応用物理学会 | *所属学会：応用物理学会 | ||
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2012年4月9日 (月) 14:39時点における版
福島大介 (Daisuke Fukushima)
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- 修士課程2年
概要
フーリエ変換赤外吸収分光法(FT-IR)を用いたCl2プラズマによるSiエッチングの反応解析におけるSi(100)とSi(111)表面の比較を行っています。
- メール：fukushima.daisuke.36a@st.kyoto-u.ac.jp
- 所属学会：応用物理学会
- 研究室内役職：安全
- 学生実験TA
学歴
- 2007年3月 大阪府立天王寺高等学校 卒業
- 2007年4月 京都大学 工学部 物理工学科 入学
- 2011年3月 同卒業
- 2011年4月 京都大学 大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻 入学
趣味
- 読書
- 漫画やラノベ以外も読みますよ、たまに。
- スキー、スノーボード
- 毎年一回は家族で、あるいは友人と滑りにいっています。小さい頃からやっているのでそれなりの腕前です。
国際学会 / International conferences
2011
- Hiroki Miyata, Hirotaka Tsuda, Daisuke Fukushima, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: "Fourier Transofrm Infrared Absorption Spectroscopy of Gas-Phase and Surface Reaction Products during Si Etching in Inductively Coupled Cl2 Plasmas", 64th Annual Gaseous Electronics Conference, November 15–18, 2011, Salt Palace Convention Center, Salt Lake City, Utah, USA, NR1-10, Bull. Am. Phys. Soc. 56(15) p. 64.
