2017年11月21日 (火) 21:21時点における版

濱野誉 (Takashi Hamano)

Takashi Hamano (B4) and Koji Eriguchi: "A comprehensive analysis of progressive behavior of plasma-induced damage formation in Si substrates", 39th International Symposium on Dry Process: DPS2017, November 16-17, 2017, Tokyo Tech Front (Kuramae Kaikan), Tokyo Institute of Technology, Tokyo, Japan. Proc. 39th International Symposium on Dry Process (DPS), 215-216 (2017).

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 *メール：hamano.takashi.35c(at)st.kyoto-u.ac.jp
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+==研究概要 / Research content==
-===研究概要===
+*シリコン単結晶に生じるプラズマ誘起ダメージの進展解析
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+*窒化ホウ素膜薄膜の成膜
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-=== 学歴 ===
+== 学歴 / Education==
 *2014年4月　京都大学 工学部 物理工学科 入学
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+== 国際学会 / International conference ==
-=== 趣味 ===
+* '''Takashi Hamano''' (B4) and Koji Eriguchi: "A comprehensive analysis of progressive behavior of plasma-induced damage formation in Si substrates", [http://www.dry-process.org/2017/index.html  39th International Symposium on Dry Process: DPS2017], November 16-17, 2017, Tokyo Tech Front (Kuramae Kaikan), Tokyo Institute of Technology, Tokyo, Japan. Proc. 39th International Symposium on Dry Process (DPS), 215-216 (2017).
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