Member:Hamano
京大推進研
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*所属学会：[http://www.jsap.or.jp/ 応用物理学会 (JSAP)] | *所属学会：[http://www.jsap.or.jp/ 応用物理学会 (JSAP)] | ||
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*シリコン単結晶基板内部に生じるプラズマ誘起ダメージの進展メカニズムの解析 | *シリコン単結晶基板内部に生じるプラズマ誘起ダメージの進展メカニズムの解析 | ||
*窒化ホウ素薄膜の成膜技術の確立 | *窒化ホウ素薄膜の成膜技術の確立 | ||
2018年1月17日 (水) 04:36時点における版
濱野 誉 (Takashi Hamano)
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- 学部4年
- メール：hamano.takashi.35c(at)st.kyoto-u.ac.jp
- 所属学会：応用物理学会 (JSAP)
研究概要 / Research
- シリコン単結晶基板内部に生じるプラズマ誘起ダメージの進展メカニズムの解析
- 窒化ホウ素薄膜の成膜技術の確立
をテーマとして研究を行っています。
学歴 / Education
- 2014年3月 甲陽学院高等学校 卒業
- 2014年4月 京都大学 工学部 物理工学科 入学
国際学会 / International conference
- Takashi Hamano (B4) and Koji Eriguchi: "A comprehensive analysis of progressive behavior of plasma-induced damage formation in Si substrates", 39th International Symposium on Dry Process: DPS2017, November 16-17, 2017, Tokyo Tech Front (Kuramae Kaikan), Tokyo Institute of Technology, Tokyo, Japan. Proc. 39th International Symposium on Dry Process (DPS), 215-216 (2017).
