濱野 誉 (Takashi Hamano)
- 学部4年
- メール：hamano.takashi.35c(at)st.kyoto-u.ac.jp
研究概要 / Research content
- シリコン単結晶に生じるプラズマ誘起ダメージの進展解析
- 窒化ホウ素薄膜の成膜
学歴 / Education
- 2014年4月 京都大学 工学部 物理工学科 入学
国際学会 / International conference
- Takashi Hamano (B4) and Koji Eriguchi: "A comprehensive analysis of progressive behavior of plasma-induced damage formation in Si substrates", 39th International Symposium on Dry Process: DPS2017, November 16-17, 2017, Tokyo Tech Front (Kuramae Kaikan), Tokyo Institute of Technology, Tokyo, Japan. Proc. 39th International Symposium on Dry Process (DPS), 215-216 (2017).
