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京大推進研

2017年11月24日 (金) 15:34時点におけるHamano (トーク | 投稿記録)による版
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濱野 誉 (Takashi Hamano)

目次

  • 学部4年
  • メール:hamano.takashi.35c(at)st.kyoto-u.ac.jp

研究概要 / Research content

  • シリコン単結晶に生じるプラズマ誘起ダメージの進展解析
  • 窒化ホウ素薄膜の成膜

学歴 / Education

  • 2014年3月 甲陽学院高等学校 卒業
  • 2014年4月 京都大学 工学部 物理工学科 入学

国際学会 / International conference

  • Takashi Hamano (B4) and Koji Eriguchi: "A comprehensive analysis of progressive behavior of plasma-induced damage formation in Si substrates", 39th International Symposium on Dry Process: DPS2017, November 16-17, 2017, Tokyo Tech Front (Kuramae Kaikan), Tokyo Institute of Technology, Tokyo, Japan. Proc. 39th International Symposium on Dry Process (DPS), 215-216 (2017).