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'''博士論文'''
 
'''博士論文'''
  
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==2012==
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==2025年5月==
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;[[Member:Asamoto|朝本 雄也 (Yuya Asamoto)]]
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;[[Member:Goya|郷矢 崇浩 (Takahiro Goya))]]
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==2025年3月==
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;[[Member:Kuyama|久山 智弘 (Tomohiro Kuyama)]]
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==2023年3月==
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;[[Member:Hamano|濱野 誉 (Takashi Hamano)]] {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/283731}}
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: A Study on Physical Property Changes in Dielectric and Semiconductor Materials Induced by Ion Irradiation During Plasma Processing<br>（プラズマプロセス中のイオン照射により誘起される絶縁体および半導体材料の物性変化に関する研究）
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;[[Member:Satoh|佐藤 好弘 (Yoshihiro Sato)]] {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/283699}}
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: A Study on Plasma Process-Induced Defect Creation in Si-Based Devices<br>（シリコン系デバイスにおけるプラズマプロセス誘起欠陥生成に関する研究）
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==2016年3月==
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;[[Member:Nakazaki|中崎 暢也 (Nobuya Nakazaki)]] {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/215513}}
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: A Study of Plasma-Induced Surface Roughness and Ripple Formation during Silicon Etching in Inductively Coupled Chlorine Plasmas<br>（誘導結合塩素プラズマを用いたシリコンエッチングにおけるプラズマ誘起表面ラフネスとリップル形成に関する研究）
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==2015年5月==
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; 中久保　義則 (Yoshinori Nakakubo) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/200448}}
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: A study of defect generation phenomena in single crystalline silicon substrate during plasma processing and the characterization techniques<br>（プラズマ暴露によるシリコン単結晶基板中の欠陥生成メカニズム及びその評価技術の研究）
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==2013年11月==
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;丸本　健二 (Kenji Marumoto) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/180616}}
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:低応力X線吸収体の成膜とX線マスクのパターン位置精度の向上に関する研究 (論文)
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==2013年5月==
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;津田　博隆 (Hirotaka Tsuda) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/179356}}
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: Atomic-Scale Analysis of Plasma-Surface Interactions and Formation Mechanisms of Profile Anomalies and Surface Roughness during Plasma Etching of Silicon<br>（シリコンエッチングにおけるプラズマ・表面相互作用と形状異常および表面ラフネス形成機構の原子スケール解析）
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;松田　朝彦 (Asahiko Matsuda) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/179357}}
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: A Study on Plasma Process-Induced Damage during Fabrication of Si Devices and Methodology for Optical Measurement<br>（Siデバイス製造過程におけるプラズマプロセス誘起ダメージとその光学的測定方法論の研究）
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==2012年5月==
 
; 福本　浩志 (Hiroshi Fukumoto) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/158076}}
 
; 福本　浩志 (Hiroshi Fukumoto) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/158076}}
 
: Model Analysis of Plasma-Surface Interactions during Silicon Oxide Etching in Fluorocarbon Plasmas<br>（フルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ－表面相互作用の数値解析）
 
: Model Analysis of Plasma-Surface Interactions during Silicon Oxide Etching in Fluorocarbon Plasmas<br>（フルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ－表面相互作用の数値解析）
  
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==2011==
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==2011年9月==
 
; 高橋　岳志 (Takeshi Takahashi) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/151975}}
 
; 高橋　岳志 (Takeshi Takahashi) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/151975}}
 
:Numerical and Experimental Study of Performance Improvement of a Microwave-Excited Microplasma Thruster Designed for Small Spacecraft<br>（小型宇宙機用マイクロ波励起マイクロプラズマスラスタの性能向上に関する数値的・実験的研究）
 
:Numerical and Experimental Study of Performance Improvement of a Microwave-Excited Microplasma Thruster Designed for Small Spacecraft<br>（小型宇宙機用マイクロ波励起マイクロプラズマスラスタの性能向上に関する数値的・実験的研究）
  
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==2008==
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==2008年3月==
 
; 杉原　浩平 (Kohei Sugihara) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/136367}}
 
; 杉原　浩平 (Kohei Sugihara) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/136367}}
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: エレベイテッドソース・ドレイン技術による微細MOSFETの高性能化に関する研究  
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: エレベイテッドソース・ドレイン技術による微細MOSFETの高性能化に関する研究 (論文)
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==2008年1月==
 
; 枝村　学 (Manabu Edamura) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/136366}}
 
; 枝村　学 (Manabu Edamura) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/136366}}
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: 誘導結合型プラズマエッチング装置におけるプラズマ制御の高度化に関する研究  
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: 誘導結合型プラズマエッチング装置におけるプラズマ制御の高度化に関する研究 (論文)
  
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==2007==
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==2007年3月==
 
; 鷹尾　祥典 (Yoshinori Takao) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/136230}}
 
; 鷹尾　祥典 (Yoshinori Takao) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/136230}}
 
: Development of a Miniature Electrothermal Thruster Using Microwave-Excited Microplasmas for Ultra Small Satellites <br /> (マイクロ波励起マイクロプラズマを用いた超小型人工衛星のための電熱加速型推進機の研究開発）
 
: Development of a Miniature Electrothermal Thruster Using Microwave-Excited Microplasmas for Ultra Small Satellites <br /> (マイクロ波励起マイクロプラズマを用いた超小型人工衛星のための電熱加速型推進機の研究開発）
  
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==2006==
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==2006年9月==
 
; 小佐野　祐吾 (Yugo Osano) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/136158}}
 
; 小佐野　祐吾 (Yugo Osano) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/136158}}
 
: An Atomic Scale Model of Plasma-Surface Interactions and Numerical Analysis of the Feature Profile Evolution during Silicon Etching in Chlorine-Containing Plasmas<br /> (塩素系プラズマによるシリコンエッチングにおけるプラズマ・表面相互作用の原子スケールモデルと形状進展の数値解析）
 
: An Atomic Scale Model of Plasma-Surface Interactions and Numerical Analysis of the Feature Profile Evolution during Silicon Etching in Chlorine-Containing Plasmas<br /> (塩素系プラズマによるシリコンエッチングにおけるプラズマ・表面相互作用の原子スケールモデルと形状進展の数値解析）
  
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==2004==
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==2004年3月==
 
; 津田　睦 (Mutsumi Tsuda) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/147670}}
 
; 津田　睦 (Mutsumi Tsuda) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/147670}}
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: A Study of Plasma-Surface Interactions in Plasma Etching with Chlorine- and Bromine-based Chemistries<br /> （塩素および臭素系プラズマエッチングにおけるプラズマと表面との相互作用に関する研究）
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: A Study of Plasma-Surface Interactions in Plasma Etching with Chlorine- and Bromine-based Chemistries<br /> （塩素および臭素系プラズマエッチングにおけるプラズマと表面との相互作用に関する研究）(論文)
  
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==2003==
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==2003年7月==
 
; 上坂　裕之 (Hiroyuki Kosaka) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/148529}}
 
; 上坂　裕之 (Hiroyuki Kosaka) {{KURENAI|http://hdl.handle.net/2433/148529}}
 
: Numerical Studies of the Electromagnetic Fields and Plasma Properties in a Microwave Plasma Source Excited by Azimuthally Symmetric Surface Waves<br /> (軸対称表面波励起マイクロ波プラズマ源における電磁界とプラズマ特性に関する数値的研究)
 
: Numerical Studies of the Electromagnetic Fields and Plasma Properties in a Microwave Plasma Source Excited by Azimuthally Symmetric Surface Waves<br /> (軸対称表面波励起マイクロ波プラズマ源における電磁界とプラズマ特性に関する数値的研究)
  
 
[[Category:学位論文]]
 
[[Category:学位論文]]

2025年4月24日 (木) 13:43時点における最新版

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博士論文

目次

2025年5月

朝本 雄也 (Yuya Asamoto)


郷矢 崇浩 (Takahiro Goya))

2025年3月

久山 智弘 (Tomohiro Kuyama)

2023年3月

濱野 誉 (Takashi Hamano)  PDF KURENAI repository  
A Study on Physical Property Changes in Dielectric and Semiconductor Materials Induced by Ion Irradiation During Plasma Processing
（プラズマプロセス中のイオン照射により誘起される絶縁体および半導体材料の物性変化に関する研究）
佐藤 好弘 (Yoshihiro Sato)  PDF KURENAI repository  
A Study on Plasma Process-Induced Defect Creation in Si-Based Devices
（シリコン系デバイスにおけるプラズマプロセス誘起欠陥生成に関する研究）

2016年3月

中崎 暢也 (Nobuya Nakazaki)  PDF KURENAI repository  
A Study of Plasma-Induced Surface Roughness and Ripple Formation during Silicon Etching in Inductively Coupled Chlorine Plasmas
（誘導結合塩素プラズマを用いたシリコンエッチングにおけるプラズマ誘起表面ラフネスとリップル形成に関する研究）

2015年5月

中久保　義則 (Yoshinori Nakakubo)  PDF KURENAI repository  
A study of defect generation phenomena in single crystalline silicon substrate during plasma processing and the characterization techniques
（プラズマ暴露によるシリコン単結晶基板中の欠陥生成メカニズム及びその評価技術の研究）

2013年11月

丸本　健二 (Kenji Marumoto)  PDF KURENAI repository  
低応力X線吸収体の成膜とX線マスクのパターン位置精度の向上に関する研究 (論文)

2013年5月

津田　博隆 (Hirotaka Tsuda)  PDF KURENAI repository  
Atomic-Scale Analysis of Plasma-Surface Interactions and Formation Mechanisms of Profile Anomalies and Surface Roughness during Plasma Etching of Silicon
（シリコンエッチングにおけるプラズマ・表面相互作用と形状異常および表面ラフネス形成機構の原子スケール解析）
松田　朝彦 (Asahiko Matsuda)  PDF KURENAI repository  
A Study on Plasma Process-Induced Damage during Fabrication of Si Devices and Methodology for Optical Measurement
（Siデバイス製造過程におけるプラズマプロセス誘起ダメージとその光学的測定方法論の研究）

2012年5月

福本　浩志 (Hiroshi Fukumoto)  PDF KURENAI repository  
Model Analysis of Plasma-Surface Interactions during Silicon Oxide Etching in Fluorocarbon Plasmas
（フルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ－表面相互作用の数値解析）

2011年9月

高橋　岳志 (Takeshi Takahashi)  PDF KURENAI repository  
Numerical and Experimental Study of Performance Improvement of a Microwave-Excited Microplasma Thruster Designed for Small Spacecraft
（小型宇宙機用マイクロ波励起マイクロプラズマスラスタの性能向上に関する数値的・実験的研究）

2008年3月

杉原　浩平 (Kohei Sugihara)  PDF KURENAI repository  
エレベイテッドソース・ドレイン技術による微細MOSFETの高性能化に関する研究 (論文)

2008年1月

枝村　学 (Manabu Edamura)  PDF KURENAI repository  
誘導結合型プラズマエッチング装置におけるプラズマ制御の高度化に関する研究 (論文)

2007年3月

鷹尾　祥典 (Yoshinori Takao)  PDF KURENAI repository  
Development of a Miniature Electrothermal Thruster Using Microwave-Excited Microplasmas for Ultra Small Satellites
(マイクロ波励起マイクロプラズマを用いた超小型人工衛星のための電熱加速型推進機の研究開発）

2006年9月

小佐野　祐吾 (Yugo Osano)  PDF KURENAI repository  
An Atomic Scale Model of Plasma-Surface Interactions and Numerical Analysis of the Feature Profile Evolution during Silicon Etching in Chlorine-Containing Plasmas
(塩素系プラズマによるシリコンエッチングにおけるプラズマ・表面相互作用の原子スケールモデルと形状進展の数値解析）

2004年3月

津田　睦 (Mutsumi Tsuda)  PDF KURENAI repository  
A Study of Plasma-Surface Interactions in Plasma Etching with Chlorine- and Bromine-based Chemistries
（塩素および臭素系プラズマエッチングにおけるプラズマと表面との相互作用に関する研究）(論文)

2003年7月

上坂　裕之 (Hiroyuki Kosaka)  PDF KURENAI repository  
Numerical Studies of the Electromagnetic Fields and Plasma Properties in a Microwave Plasma Source Excited by Azimuthally Symmetric Surface Waves
(軸対称表面波励起マイクロ波プラズマ源における電磁界とプラズマ特性に関する数値的研究)
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