Research

京大推進研

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| <h3>シミュレーション</h3> 2次元の粒子モデル(PIC/MC: particle-in-cell/Monte Carlo)を用いてプラズマ気相の数値解析を行っています。図1はプラズマ源の概略図です。本研究では容量結合型プラズマを仮定しています。図2はポテンシャルの分布を示しています。これより、電極付近にきわめてポテンシャルドロップが大きい領域(シース)の存在が見てとれます。
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| <h3>プラズマシミュレーション</h3> 2次元の粒子モデル(PIC/MC: particle-in-cell/Monte Carlo)を用いて容量結合型高周波プラズマの数値解析を行っています。容量結合型のプラズマ源は、大口径のウェハを均一に加工することができる利点を有しています。本研究では、プラズマ密度・温度・ポテンシャル分布のほか、基板へ入射するイオンのエネルギー・角度・フラックス等を算出しています。
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| <h3>プラズマシミュレーション</h3> 2次元の粒子モデル(PIC/MC: particle-in-cell/Monte Carlo)を用いて容量結合型高周波プラズマの数値解析を行っています。容量結合型のプラズマ源は、大口径のウェハを均一に加工することができる利点を有しています。本研究では、プラズマ密度・温度・ポテンシャル分布のほか、基板へ入射するイオンのエネルギー・角度・フラックス等を算出しています。
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2011年7月21日 (木) 14:01時点における版

プラズマシミュレーション

2次元の粒子モデル(PIC/MC: particle-in-cell/Monte Carlo)を用いて容量結合型高周波プラズマの数値解析を行っています。容量結合型のプラズマ源は、大口径のウェハを均一に加工することができる利点を有しています。本研究では、プラズマ密度・温度・ポテンシャル分布のほか、基板へ入射するイオンのエネルギー・角度・フラックス等を算出しています。
Chanber.png Potential.png


プラズマシミュレーション

2次元の粒子モデル(PIC/MC: particle-in-cell/Monte Carlo)を用いて容量結合型高周波プラズマの数値解析を行っています。容量結合型のプラズマ源は、大口径のウェハを均一に加工することができる利点を有しています。本研究では、プラズマ密度・温度・ポテンシャル分布のほか、基板へ入射するイオンのエネルギー・角度・フラックス等を算出しています。
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