久山 智弘 (Tomohiro Kuyama)

2015年度NFにて

• 修士1年
• 所属学会：応用物理学会 (The Japan Society of Applied Physics: JSAP)
• メール：kuyama.tomohiro.23x(at)st.kyoto-u.ac.jp

研究概要

• 絶縁膜のプラズマ誘起欠陥形成に関する研究

学歴

• 2013年3月　岡山県立岡山朝日高等学校　卒業
• 2013年4月　京都大学 工学部 物理工学科　入学
• 2017年3月　京都大学 工学部 物理工学科 宇宙基礎工学コース　卒業
• 2017年4月　京都大学 大学院 工学研究科 航空宇宙工学専攻　入学

趣味

• 野球観戦（千葉ロッテマリーンズファン）
• スパイスカレー作り
• 京大カレー部員として不定期に活動中

受賞 / Award

1. 応用物理学会 関西支部 平成29年度 第3回講演会ポスター賞（最優秀賞）, 2018年2月23日.

国内・国際学会など / conference and workshop

• 国際学会

1. Tomohiro Kuyama(M1) and Koji Eriguchi: “Characterization tequnique of silicon nitride film damaged by plasma exposure”, 39th International Symposium on Dry Process: DPS2017, November 16-17, 2017, Tokyo Tech Front, Tokyo Institute of Technology, Tokyo, Japan.

• 国内学会

1. 久山智弘(M1)，吉川侑汰，篠原健吾，江利口浩二「高エネルギーイオン照射による窒化シリコン薄膜中の欠陥形成とその診断に関する研究」，日本航空宇宙学会 第54回関西・中部支部合同秋期大会，2017年11月11日，京都大学桂キャンパス．
2. 久山智弘(M1)，江利口浩二「光学的および電気的手法を用いたシリコン窒化膜中のプラズマ誘起欠陥の構造解析手法」，応用物理学会関西支部 平成29年度第3回講演会，2018年2月23日，大阪大学中之島センター，P-23．

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