Member:Satoh
京大推進研
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#佐藤 好弘 ,柴田 聡,占部 継一郎,江利口浩二:「pn 接合構造を用いたシリコン基板へのプラズマ誘起ダメージの評価」,[https://meeting.jsap.or.jp/jsap2021a/ 第82回応用物理学会秋季学術講演会],2021年9月10日~13日,オンライン開催,10p-S301-2.'''[プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演]''' | #佐藤 好弘 ,柴田 聡,占部 継一郎,江利口浩二:「pn 接合構造を用いたシリコン基板へのプラズマ誘起ダメージの評価」,[https://meeting.jsap.or.jp/jsap2021a/ 第82回応用物理学会秋季学術講演会],2021年9月10日~13日,オンライン開催,10p-S301-2.'''[プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演]''' | ||
+ | #佐藤 好弘,山田隆善,西村佳壽子,山崎雅之,村上雅史,占部 継一郎,江利口浩二:「プラズマプロセスにより形成される3次元欠陥分布が暗電流特性に及ぼす影響評価」(映像情報メディア学会 情報センシング研究会(IST),「固体撮像技術および一般」,2021年3月26日(金),オンライン開催. |
2021年9月21日 (火) 10:46時点における版
佐藤 好弘 (Yoshihiro Sato)
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- 博士3年
- 社会人D
受賞 / Award
- 第19回プラズマエレクトロニクス賞, 2021年3月.
投稿論文 / Journal article
- Yoshihiro Sato, Satoshi Shibata, Keiichiro Urabe and Koji Eriguchi, "Evaluation of residual defects created by plasma exposure of Si substrates using vertical and lateral pn junctions," Journal of Vacuum Science & Technology B 38, 012205 (2020).<doi:10.1116/1.5126344>
Beneath the AVS Surface Highlighted Paper - Yoshihiro Sato, Satoshi Shibata, Akira Uedono, Keiichiro Urabe and Koji Eriguchi, "Characterization of the distribution of defects introduced by plasma exposure in Si substrate," Journal of Vacuum Science & Technology A 37, 011304 (2019). <doi:10.1116/1.5048027>
招待講演 / Invited talks
International conferences
- Y. Sato, T. Yamada, K. Nishimura, M. Yamasaki, M. Murakami, K. Urabe, and K. Eriguchi: "Evaluation of Plasma-Induced Stochastic Damage Creation in the Lateral Direction Using pn Junction Structures," The 20th International Workshop on Junction Technology (IWJT2021), S2-2 (On-line).
- Y. Sato, S. Shibata, A. Uedono, K. Urabe, and K. Eriguch: “Characterization of residual defects created in Si substrates”, The Forum on the Science and Technology of Silicon Materials 2018, November 18-21, 2018, Okayama University 50th Anniversary Hall, Okayama, Japan.
Domestic conferences
- 佐藤 好弘 ,柴田 聡,占部 継一郎,江利口浩二:「pn 接合構造を用いたシリコン基板へのプラズマ誘起ダメージの評価」,第82回応用物理学会秋季学術講演会,2021年9月10日~13日,オンライン開催,10p-S301-2.[プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演]
- 佐藤 好弘,山田隆善,西村佳壽子,山崎雅之,村上雅史,占部 継一郎,江利口浩二:「プラズマプロセスにより形成される3次元欠陥分布が暗電流特性に及ぼす影響評価」(映像情報メディア学会 情報センシング研究会(IST),「固体撮像技術および一般」,2021年3月26日(金),オンライン開催.