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国内会議発表一覧 （3年間分のみ表示）

2010

  • 谷口健，鷹尾祥典，江利口浩二，斧高一: 「古典的分子動力学シミュレーションを用いた塩素・臭素系プラズマによるSiエッチングの反応解析：表面反応層及びエッチング生成物」2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会, 2010年9月14～17日, 長崎大学文教キャンパス, 8.4プラズマエッチング, 16a-ZA-4.
  • 津田博隆，宮田浩貴，鷹尾祥典，江利口浩二，斧高一: 「3次元原子スケールセルモデルによるSiエッチング形状進展シミュレーション: 表面ラフネスの構造解析」2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会, 2010年9月14～17日, 長崎大学文教キャンパス, 8.4プラズマエッチング, 16a-ZA-5.
  • 宮田浩貴，津田博隆，鷹尾祥典，江利口浩二，斧高一: 「フーリエ変換赤外吸収分光法を用いたCl2プラズマによるSiエッチングにおける表面および気相の反応解析」2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会, 2010年9月14～17日, 長崎大学文教キャンパス, 8.4プラズマエッチング, 16a-ZA-6.
  • 江利口浩二，中久保義則，松田朝彦，鷹尾祥典，斧高一: 「プラズマプロセスにおけるSi基板ダメージ層形成モデルの提案」2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会, 2010年9月14～17日, 長崎大学文教キャンパス, 8.4プラズマエッチング, 16a-ZA-8.
  • 松田朝彦，中久保義則，鷹尾祥典，江利口浩二，斧高一: 「分子動力学法によるプラズマ誘起ダメージ予測：イオンエネルギー分布の影響」2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会, 2010年9月14～17日, 長崎大学文教キャンパス, 8.4プラズマエッチング, 16a-ZA-9.
  • 三枝琢己，鷹尾祥典，江利口浩二，斧高一: 「分子動力学シミュレーションを用いたシリコンナノワイヤ中の格子振動解析」2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会, 2010年9月14～17日, 長崎大学文教キャンパス, 13.7シミュレーション, 17a-S-2.
  • 谷口 健, 長岡達弥, 津田博隆, 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧 高一 : 「古典的分子動力学シミュレーションを用いた塩素系プラズマによるSiエッチング機構の解明：ビーム入射とビーム＋ラジカル入射の比較 (Classical Molecular Dynamics Simulation of Plasma-Surface Interactions during Si Etching in Chlorine-based Plasmas:Beam Injenction, Beam plus Radical Injenction )」, 2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会, 2010年3月17日～20日, 東海大学湘南キャンパス, 18p-ZD-13.
  • 津田博隆，森政士，鷹尾祥典，江利口浩二，斧高一: 「原子スケールモデルによるSiエッチング形状シミュレーション: 微視的不均一性に関する解析 (Atomic-scale Cellular Model and Profile Simulation of Si Etching in Chlorine-based Plasmas: Analysis of Mechanisms for Microscopic Uniformity)」, 2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会, 2010年3月17日～20日, 東海大学湘南キャンパス, 18p-ZD-12.
  • 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一: 「PIC/MCC モデルを用いた超小型誘導結合型プラズマ源の数値解析 (Numerical Analysis of a Micro Inductively Coupled Plasma Source Using PIC/MCC)」, 2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会, 2010年3月17日～20日, 東海大学湘南キャンパス, 18p-ZB-3.
  • 谷口 健, 長岡達弥, 津田博隆, 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧 高一 : 「塩素・臭素プラズマによるSi エッチングの古典的分子動力学シミュレーション：ビーム入射、ビーム＋ラジカル入射から、形状進展まで (Classical Molecular Dynamics Simulation of Plasma-Surface Interactions during Si Etching in Chlorine- and Bromine-based Plasmas: Beam Injection, Beam plus Radical Injection, and Feature Profile Evolution )」, 第27回プラズマプロセシング研究会(SPP-27), 2010年2月1日～3日, 横浜市開港記念会館, A2-02. The 27th Symposium on Plasma Processing Proceedings, 2010, .
  • 津田博隆，森　政士，鷹尾祥典，江利口浩二，斧　高一 : 「原子スケールモデルによるSiエッチング形状進展シミュレーション: 形状異常の予測とその制御 (Atomic-scale cellular model and profile simulation of Si etching in chlorine-containing plasmas: Control and prediction of profile anomalies)」, 第27回プラズマプロセシング研究会(SPP-27), 2010年2月1日～3日, 横浜市開港記念会館, A2-03. The 27th Symposium on Plasma Processing Proceedings, 2010, .
  • 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一: 「超小型誘導結合型プラズマ源の粒子シミュレーション (Particle Simulation of a Micro Inductively Coupled Plasma Source)」, 第27回プラズマプロセシング研究会(SPP-27), 2010年2月1日～3日, 横浜市開港記念会館, B6-01. The 27th Symposium on Plasma Processing Proceedings, 2010, .

2009

  • 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一: 「マイクロイオンスラスタのための PIC/MC モデルを用いたマイクロ ICP の解析 (Numerical Analysis of a Micro ICP Using PIC/MC Model for a Micro Ion Thruster)」, 第 46 回日本航空宇宙学会関西・中部支部合同秋期大会, 2009年11月27日, 京都大学 芝蘭会館 別館, B-2.
  • 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一: 「ICP プラズマ源を用いたマイクロイオンスラスタの PIC/MC モデル構築 (PIC/MC Model of a Micro Ion Thruster using an ICP Plasma Source )」, 第53回宇宙科学連合講演会, 2009年9月9日～11日, 京都大学, 1L17.
  • 斧高一: 「宇宙マイクロ・ナノ工学：現状と今後の展望」, 第53回宇宙科学連合講演会, 2009年9月9日～11日, 京都大学, 1F04.
  • 高橋岳志, 北西駿典, 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一: 「数値解析を用いたマイクロ波励起マイクロプラズマスラスタの設計検討」, 第53回宇宙科学連合講演会, 2009年9月9日～11日, 京都大学, 1L10.
  • 北西駿典, 高橋岳志, 鷹尾祥典, 江利口浩二, 斧高一: 「発光分光法によるマイクロプラズマスラスタのガス温度と電子密度の測定」, 第53回宇宙科学連合講演会, 2009年9月9日～11日, 京都大学, 1L07.
  • 斧高一 : 「ＵＬＳＩ用エッチングプラズマの進化と現状」, 2009年（平成21年）秋季第70回応用物理学会学術講演会, 2009年9月8日～11日, 富山大学, 8p-ZD-4.
  • 三枝琢己，西村顕吉，鷹尾祥典，太田裕朗，江利口浩二，斧　高一: 「シリコンナノワイヤ中の熱輸送過程の解析とプラズマを用いた合成実験」, 2009年（平成21年）秋季第70回応用物理学会学術講演会, 2009年9月8日～11日, 富山大学, 11a-N-11.
  • 松田朝彦，中久保義則，深沢正永，鷹尾祥典，辰巳哲也，江利口浩二，斧　高一: 「H2を含むプラズマによるSi基板ダメージの光学的・電気的構造」, 2009年（平成21年）秋季第70回応用物理学会学術講演会, 2009年9月8日～11日, 富山大学, 9a-ZG-13.
  • 津田博隆，森　政士，鷹尾祥典，江利口浩二，斧　高一 : 「原子スケールセルモデルによるSiエッチング形状進展シミュレーション: 残渣の発現メカニズム」, 2009年（平成21年）秋季第70回応用物理学会学術講演会, 2009年9月8日～11日, 富山大学, 9a-ZG-12.
  • 谷口　健，長岡達弥，鷹尾祥典，江利口浩二，斧　高一 : 「ヨウ素プラズマによるSiエッチングシミュレーションのためのSi/I系ポテンシャルの構築」, 2009年（平成21年）秋季第70回応用物理学会学術講演会, 2009年9月8日～11日, 富山大学, 9a-ZG-11.
  • 長岡達弥，谷口　健，太田裕朗，鷹尾祥典，江利口浩二，斧　高一 : 「単原子イオンBr+, Cl+ と二原子イオンBr2+, Cl2+, HBr+ によるSiエッチングシミュレーション」, 2009年（平成21年）秋季第70回応用物理学会学術講演会, 2009年9月8日～11日, 富山大学, 9a-ZG-10.
  • 宮田浩貴，鷹尾祥典，江利口浩二，斧　高一: 「フーリエ変換赤外吸収分光法によるプラズマエッチング反応解析」, 2009年（平成21年）秋季第70回応用物理学会学術講演会, 2009年9月8日～11日, 富山大学, 9a-E-11.
  • Kouichi Ono: "A study of plasma-surface interactions in advanced plasma etching processes for nanofabrication" （招待講演）, 第22回プラズマ材料科学シンポジウム, 2009年6月15日～16日, 東京大学 山上会館, A4-1. The 22nd Symposium on Plasma Science for Materials Abstracts of Papers, p. 81.
  • Asahiko Matsuda, Yoshinori Nakakubo, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi and Kouichi Ono: "Modeling of Ion-Bombardment Damage on Si Surfaces for In-Line Analysis", 第22回プラズマ材料科学シンポジウム, 2009年6月15日～16日, 東京大学 山上会館, P-7. The 22nd Symposium on Plasma Science for Materials Abstracts of Papers, p. 30.
  • Yoshinori Nakakubo, Asahiko Matsuda, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi and Kouichi Ono: "Effects of O2 addition on Si substrate surface damage exposed to Ar plasma", 第22回プラズマ材料科学シンポジウム, 2009年6月15日～16日, 東京大学 山上会館, P-6. The 22nd Symposium on Plasma Science for Materials Abstracts of Papers, p. 29.
  • Hirotaka Tsuda, Masahito Mori, Koji Eriguchi and Kouichi Ono: "Atomic-scale cellular model and profile simulation of Si etching: Formation of surface roughness and residues", 第22回プラズマ材料科学シンポジウム, 2009年6月15日～16日, 東京大学 山上会館, P-5. The 22nd Symposium on Plasma Science for Materials Abstracts of Papers, p. 28.
  • Masayuki Kamei, Yoshinori Nakakubo, Koji Eriguchi and Kouichi Ono: "Bias frequency dependence of pn junction chargin damage induced by plasma processing", 第22回プラズマ材料科学シンポジウム, 2009年6月15日～16日, 東京大学 山上会館, P-4. The 22nd Symposium on Plasma Science for Materials Abstracts of Papers, p. 27.
  • 長岡達弥，太田裕朗，江利口浩二，斧高一: 「古典的原子間ポテンシャルモデルを用いたHBrプラズマによるSiエッチングシミュレーション (The Application of Classical Interatomic Potential Model to Si Etching Simulation by HBr Plasmas)」, 2009年（平成21年）春季第56回応用物理学関係連合講演会, 2009年3月30日～4月2日, 筑波大学, 1p-ZW-16. 第56回応用物理学関係連合講演会講演予稿集 第1分冊, p. 248.
  • 津田博隆，森政士，太田裕朗，江利口浩二，斧高一: 「原子スケールセルモデルによるSiエッチング形状シミュレーション: パターン底面部の表面あらさの定量化 (Atomic-scale Cellular Model and Profile Simulation of Si Etching: Quantification of Bottom Surface Roughness)」, 2009年（平成21年）春季第56回応用物理学関係連合講演会, 2009年3月30日～4月2日, 筑波大学, 1p-ZW-15. 第56回応用物理学関係連合講演会講演予稿集 第1分冊, p. 248.
  • 松田朝彦，荻野力，中久保義則，太田裕朗，江利口浩二，斧高一: 「Si表面のプラズマダメージの精確な解析における界面層の重要性 (On the Importance of Interface Layer in Accurate Analysis of Plasma-Induced Damage on Si Surfaces)」, 2009年（平成21年）春季第56回応用物理学関係連合講演会, 2009年3月30日～4月2日, 筑波大学, 1p-ZW-12. 第56回応用物理学関係連合講演会講演予稿集 第1分冊, p. 247.
  • 中久保義則，松田朝彦，荻野力，上田義法，江利口浩二，斧高一: 「O2添加ArプラズマによるSi基板表面層内誘起欠陥の電気的解析 (Electrical Analysis for the Defect Sites Generated within Si Substrate Surface Layer Exposed to O2 Additional Ar Plasma)」, 2009年（平成21年）春季第56回応用物理学関係連合講演会, 2009年3月30日～4月2日, 筑波大学, 1p-ZW-11. 第56回応用物理学関係連合講演会講演予稿集 第1分冊, p. 246.
  • 三枝琢己，太田裕朗，江利口浩二，斧高一: 「MDシミュレーションによるシリコンナノワイヤの熱伝導率の計算 (Calculation of Thermal Conductivity of Silicon Nanowires using Molecular Dynamics Simulation)」, 2009年（平成21年）春季第56回応用物理学関係連合講演会, 2009年3月30日～4月2日, 筑波大学, 1a-P13-5. 第56回応用物理学関係連合講演会講演予稿集 第2分冊, p. 809.
  • 高橋岳志、市田有吾、江利口浩二、斧高一: 「マイクロ波励起マイクロプラズマ推進機のプラズマ診断および推力測定: 推進剤の比較 (Plasma Diagnostics and Thrust Measurement of a Microwave-Excited Microplasma Thruster: A Comparison of Propellants)」, プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会, 2009年2月2日～4日, 名古屋大学 豊田講堂・シンポジオン, P3-53. Plasma Science Symposium 2009 and The 26th Symposium on Plasma Processing Proceedings, pp. 520-521.
  • 上田義法、仲村恵佑、清上博章、吉田昌弘、宮田浩貴、江利口浩二、斧高一: 「BCl3混合プラズマを用いたTaN/HfO2ゲートスタックのエッチング (Etching of TaN/HfO2 Gate-stack in BCl3-containing Plasmas)」, プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会, 2009年2月2日～4日, 名古屋大学 豊田講堂・シンポジオン, P3-08. Plasma Science Symposium 2009 and The 26th Symposium on Plasma Processing Proceedings, pp. 430-431.
  • 中久保義則、松田朝彦、荻野力、亀井政幸、江利口浩二、斧高一: 「プラズマによりSi表面に形成される電荷捕獲型欠陥の光学的・電気的解析 (Identification of Carrier Trapping Defect Sites in Plasma-Exposed Si Surface by Optical and Electrical Techniques)」, プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会, 2009年2月2日～4日, 名古屋大学 豊田講堂・シンポジオン, P3-05. Plasma Science Symposium 2009 and The 26th Symposium on Plasma Processing Proceedings, pp. 424-425.
  • 長岡達弥、太田裕朗、江利口浩二、斧高一: 「古典的分子動力学法を用いたHBrプラズマ中のBr+, Br2+, HBr+によるSiエッチング表面反応解析シミュレーション (Classical Molecular Dynamics Simulation to Analyze the Surface Reaction of Si Etching by Br+, Br2+, and HBr+ Ions in HBr Plasmas)」, プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会, 2009年2月2日～4日, 名古屋大学 豊田講堂・シンポジオン, P3-04. Plasma Science Symposium 2009 and The 26th Symposium on Plasma Processing Proceedings, pp. 422-423.
  • 津田博隆、入江祥己、森政士、太田裕朗、江利口浩二、斧高一: 「原子スケールセルモデルによるSiエッチング形状シミュレーション：形状進展における表面酸化の影響 (Atomic-scale Cellular Model and Profile Simulation of Si Etching: Effects of Surface Oxidation on Feature Profile Evolution)」, プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会, 2009年2月2日～4日, 名古屋大学 豊田講堂・シンポジオン, P3-03. Plasma Science Symposium 2009 and The 26th Symposium on Plasma Processing Proceedings, pp. 420-421.
  • 松田朝彦、荻野力、中久保義則、太田裕朗、江利口浩二、斧高一: 「Si表面におけるプラズマダメージ層増大の分光エリプソメトリーと分子動力学シミュレーションによる解析 (Detailed Analysis of Plasma-Damaged Layer and Its Significance in Si Surface Structures by Spectroscopic Ellipsometry and Molecular Dynamics Simulations)」, プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会, 2009年2月2日～4日, 名古屋大学 豊田講堂・シンポジオン, P3-02. Plasma Science Symposium 2009 and The 26th Symposium on Plasma Processing Proceedings, pp. 418-419.
  • 高橋 岳志，市田 有吾, 江利口 浩二，斧 高一: 「電熱加速型マイクロプラズマスラスタの数値計算による形状検討」, 平成20年度宇宙輸送シンポジウム, 2009年1月19日～20日, JAXA相模原キャンパス.

2008

  • 高橋岳志，市田 有吾, 鷹尾 祥典，太田 裕朗，江利口 浩二，斧 高一: 「マイクロ波励起マイクロプラズマスラスタの数値解析および実験」, 第52回 宇宙科学技術連合講演会, 2008年11月5日～7日, 淡路夢舞台国際会議場, 1G09.
  • 江利口浩二: 「プラズマエッチングの基礎と研究開発・量産現場での課題」 （招待講演）, 第2回プラズマエレクトロニクス インキュベーションホール, 2008年9月24日～26日, マキノパークホテル＆セミナーハウス, 専門講座4.
  • 津田博隆，森政士，太田裕朗，江利口浩二，斧高一: 「原子スケールセルモデルによるSiエッチング形状シミュレーション: Si微細パターン内での表面酸化と粒子挙動の解析」, 第2回プラズマエレクトロニクス インキュベーションホール, 2008年9月24日～26日, マキノパークホテル＆セミナーハウス.
  • 中久保義則，松田朝彦，上田義法，太田裕朗，江利口浩二，斧　高一: 「Ar系プラズマにおけるSi表面層内誘起欠陥形成過程のO2添加効果」, 2008年（平成20年）秋季第69回応用物理学会学術講演会, 2008年9月2日～5日, 中部大学, 3a-ZC-11.
  • 上田義法，仲村恵佑，清上博章，太田裕朗，江利口浩二，斧　高一: 「BCl3混合プラズマを用いた高誘電率HfO2薄膜エッチングにおける反応解析」, 2008年（平成20年）秋季第69回応用物理学会学術講演会, 2008年9月2日～5日, 中部大学, 3a-ZC-10.
  • 津田博隆，森　政士，太田裕朗，江利口浩二，斧　高一: 「原子スケールセルモデルによるSiエッチング形状シミュレーション：微細パターン内での表面酸化と粒子挙動の解析」, 2008年（平成20年）秋季第69回応用物理学会学術講演会, 2008年9月2日～5日, 中部大学, 3a-ZC-9.
  • 岩川 輝, 長岡 達弥，太田 裕朗，江利口 浩二，斧 高一: 「プラズマ表面相互作用解析シミュレータの開発(2): 高ラジカル/イオン比の検討」, 2008年（平成20年）秋季第69回応用物理学会学術講演会, 2008年9月2日～5日, 中部大学, 3a-ZC-8.
  • 長岡 達弥，岩川 輝，太田 裕朗，江利口 浩二，斧 高一: 「プラズマ表面相互作用解析シミュレータの開発(1): Br系プラズマによるSiエッチング」, 2008年（平成20年）秋季第69回応用物理学会学術講演会, 2008年9月2日～5日, 中部大学, 3a-ZC-7.
  • 亀井政幸，江利口 浩二，岡田健治、斧 高一: 「プラズマによる接合特性劣化のバイアス周波数依存性」, 2008年（平成20年）春季第55回応用物理学関係連合講演会, 2008年3月27日～30日, 日本大学, 28a-P5-21.
  • 福本 浩志，太田 裕朗，江利口 浩二，斧 高一: 「マスクパターンおよびチャージングがプラズマエッチングに及ぼす影響」, 2008年（平成20年）春季第55回応用物理学関係連合講演会, 2008年3月27日～30日, 日本大学, 28p-S-20.
  • 高橋岳志，市田有吾，鷹尾祥典，江利口浩二，斧高一: 「マイクロ波励起マイクロプラズマスラスタの数値解析」, 2008年（平成20年）春季第55回応用物理学関係連合講演会, 2008年3月27日～30日, 日本大学, 28p-T-15.
  • 上田 義法, 仲村 恵佑，濱田 大輔，吉田 昌弘, 太田 裕朗，江利口 浩二, 斧 高一: 「BCl3混合プラズマを用いた高誘電率HfO2薄膜のエッチングにおけるイオンエネルギー依存性」, 2008年（平成20年）春季第55回応用物理学関係連合講演会, 2008年3月27日～30日, 日本大学, 28a-S-2.
  • 清上博章，仲村恵佑，太田裕朗，江利口浩二，斧　高一: 「塩素系プラズマを用いたメタル電極材料のエッチング特性」, 2008年（平成20年）春季第55回応用物理学関係連合講演会, 2008年3月27日～30日, 日本大学, 28a-S-1.
  • Hiroaki Kiyokami, Keisuke Nakamura, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: 「塩素系プラズマを用いたメタル電極材料と高誘電率絶縁材料のエッチング特性 (Etching of metal gate and high-k dielectric materials in chlorine-containing plasmas)」, 第25回プラズマプロセシング研究会 (SPP-25), 2008年1月23日～25日, 山口県教育会館・ゆ～あいプラザ山口県社会福祉会館, P2-28. Proceedings of the 25th Symposium on Plasma Processing (SPP-25), 2008, pp. 277-278.
  • Yoshinori Nakakubo, Asahiko Matsuda, Yoshinori Ueda, Daisuke Hamada, Masayuki Kamei, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: 「シリコン表面ダメージ層形成過程におけるバイアス周波数重畳効果 (Effects of the superposed bias-frequency configurations on the defect generation probability in Si surface region)」, 第25回プラズマプロセシング研究会 (SPP-25), 2008年1月23日～25日, 山口県教育会館・ゆ～あいプラザ山口県社会福祉会館, P2-25. Proceedings of the 25th Symposium on Plasma Processing (SPP-25), 2008, pp. 271-272.
  • Hiroshi Fukumoto, Koji Eriguchi and Kouichi Ono: 「エッチング形状進展におけるマスクパターン依存性 (Dependence of Mask Patterns on Etching Profile Evolution)」, 第25回プラズマプロセシング研究会 (SPP-25), 2008年1月23日～25日, 山口県教育会館・ゆ～あいプラザ山口県社会福祉会館, P2-23. Proceedings of the 25th Symposium on Plasma Processing (SPP-25), 2008, pp. 267-268.
  • Koji Eriguchi, Masayuki Kamei, Kenji Okada, and Kouichi Ono: 「プラズマチャージングダメージがHigh-kゲート先端トランジスタ劣化極性へ及ぼす効果 (Plasma charging damage polarity in advanced MOSFETs with high-k gate dielectric)」, 第25回プラズマプロセシング研究会 (SPP-25), 2008年1月23日～25日, 山口県教育会館・ゆ～あいプラザ山口県社会福祉会館, B4-05. Proceedings of the 25th Symposium on Plasma Processing (SPP-25), 2008, pp. 77-78.
  • Yoshinori Ueda, Keisuke Nakamura, Daisuke Hamada, Masahiro Yoshida, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: 「BCl3混合プラズマを用いた高誘電率HfO2薄膜のECRおよびICPリアクタによるエッチング特性の比較 (Comparative study of ECR and ICP plasma etching of high-k dielectric HfO2 films with BCl3-containing gas chemistries)」, 第25回プラズマプロセシング研究会 (SPP-25), 2008年1月23日～25日, 山口県教育会館・ゆ～あいプラザ山口県社会福祉会館, B4-03. Proceedings of the 25th Symposium on Plasma Processing (SPP-25), 2008, pp. 73-74.
  • Hirotaka Tsuda, Shoki Irie, Masahito Mori, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono: 「塩素系・臭素系プラズマによるSiエッチングにおける形状進展のモデル解析 (Model analysis of the profile evolution during Si etching in chlorine- and bromine-containing plasmas)」, 第25回プラズマプロセシング研究会 (SPP-25), 2008年1月23日～25日, 山口県教育会館・ゆ～あいプラザ山口県社会福祉会館, B4-02. Proceedings of the 25th Symposium on Plasma Processing (SPP-25), 2008, pp. 71-72.
  • 高橋 岳志，市田 有吾, 鷹尾 祥典，江利口 浩二，斧 高一: 「電熱加速型マイクロプラズマスラスタの数値シミュレーション」, 平成19年度宇宙輸送シンポジウム, 2008年1月28日～29日, JAXA相模原キャンパス.
  • 市田 有吾, 高橋 岳志，鷹尾 祥典，江利口 浩二，斧 高一: 「マイクロ波励起電熱加速型マイクロプラズマスラスターにおける推進性能測定」, 平成19年度宇宙輸送シンポジウム, 2008年1月28日～29日, JAXA相模原キャンパス.
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