Publications/Patents
京大推進研
（版間での差分）
細 (文字列「{{右註釈|」を「{{ヘッダ画像クレジット|」に置換) |
|||
| 1行： | 1行： | ||
| − | {{ | + | {{ヘッダ画像クレジット|[[Image:Camera small.png|16px|写真]] [http://www.flickr.com/photos/adulau/379303639/ Alexandre Dulaunoy]}} |
[[file:clipboard.png|link=]]'''公開済み特許一覧''' | [[file:clipboard.png|link=]]'''公開済み特許一覧''' | ||
2012年9月24日 (月) 18:09時点における版
公開済み特許一覧
半導体処理装置のクリーニング方法
- 発明者
- 井上實、羽坂智、大沢正典、斧高一、長利一心
- 出願日
- 2006-08-29
- 公開日
- 2008-03-13
- 出願番号
- 特許出願2006-232743
- 公開番号
- 特許公開2008-060171
プラズマ処理装置
- 発明者
- 斧高一、上坂裕之、石橋清隆、沢田郁夫
- 出願日
- 2005-06-20
- 公開日
- 2006-07-06
- 国際出願番号
- PCT/JP2005/011273
- 国際公開番号
- WO 2006/001253 A1
半導体処理装置のクリーニング方法およびシリコン基板のエッチング方法
- 発明者
- 斧高一、北川智洋、井上實、大沢正典
- 出願日
- 2004-12-24
- 公開日
- 2006-07-06
- 出願番号
- 特許出願2004-374107
- 公開番号
- 特許公開2006-179834