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目次

国際公開

プラズマ処理装置

発明者
斧高一、上坂裕之、石橋清隆、沢田郁夫
出願日
2005-06-20
公開日
2006-07-06
国際出願番号
PCT/JP2005/011273
国際公開番号
WO 2006/001253 A1

公開

半導体処理装置のクリーニング方法

発明者
井上實、羽坂智、大沢正典、斧高一、長利一心
出願日
2006-08-29
公開日
2008-03-13
出願番号
特許出願2006-232743
公開番号
特許公開2008-060171

半導体処理装置のクリーニング方法およびシリコン基板のエッチング方法

発明者
斧高一、北川智洋、井上實、大沢正典
出願日
2004-12-24
公開日
2006-07-06
出願番号
特許出願2004-374107
公開番号
特許公開2006-179834